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1. (WO2000058788) PHOTOPOLYMERIZABLE LAYERED PRODUCT WITH HIGH RESOLUTION AND SEMICONDUCTOR DEVICE MADE WITH THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/058788    International Application No.:    PCT/JP2000/001814
Publication Date: 05.10.2000 International Filing Date: 24.03.2000
Chapter 2 Demand Filed:    10.10.2000    
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NIPPON STEEL CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 21-11, Nishi-gotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 141-0031 (JP) (For All Designated States Except US).
FUJISHIRO, Koichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
INABA, Shinji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKITA, Shinsuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: FUJISHIRO, Koichi; (JP).
INABA, Shinji; (JP).
OKITA, Shinsuke; (JP)
Agent: NARUSE, Katsuo; Central Shinbashi Building, 5th floor, 11-5, Nishi-shinbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 105-0003 (JP)
Priority Data:
11/84075 26.03.1999 JP
Title (EN) PHOTOPOLYMERIZABLE LAYERED PRODUCT WITH HIGH RESOLUTION AND SEMICONDUCTOR DEVICE MADE WITH THE SAME
(FR) ARTICLE MULTICOUCHE PHOTOPOLYMERISABLE HAUTE DEFINITION ET DISPOSITIF SEMICONDUCTEUR FABRIQUE AVEC CET ARTICLE
Abstract: front page image
(EN)A photopolymerizable layered product useful as a dry film resist (DFR); and a semiconductor device and a liquid-crystal apparatus both obtained with the layered product. The layered product comprises a photopolymerizable layer and a support layer, wherein the photopolymerizable layer comprises (A) 100 parts by weight of a resin which is a carboxylated copolymer obtained by reacting a diol compound with an acid dianhydride and has a weight-average molecular weight of 3,000 to 40,000 and an acid value of 50 to 200 mgKOH/g, (B) 25 to 180 parts by weight of an unsaturated compound having two or more photopolymerizable terminal ethylenic groups per molecule, and (C) a photopolymerization initiator. The photopolymerizable layered product not only is improved in unsusceptibility to cold flow, film flexibility and strength, substrate-conforming properties during laminating, and developability but is excellent in resolution and adhesion. Hence, a high-performance semiconductor device, display, etc. can be provided.
(FR)L'invention concerne un article multicouche photopolymérisable pouvant s'utiliser comme résist sec (DFR) ; et un dispositif semiconducteur et un appareil à cristaux liquides fabriqués tous deux avec l'article multicouche. L'article multicouche comprend une couche photopolymérisable et une couche de support, la couche photopolymérisable comprenant : (A) 100 parties en poids d'une résine qui est un copolymère carboxylé obtenu par mise en réaction d'un composé diol avec un dianhydride acide et qui possède un poids moléculaire à indice de pondération compris entre 3 000 et 40 000 et une valeur acide comprise entre 50 et 200 mgKOH/g ; (B) 25 à 180 parties en poids d'un composé insaturé comprenant deux ou plusieurs groupes éthyléniques terminaux photopolymérisables par molécule ; et (C) un amorceur de photopolymérisation. L'article multicouche présente non seulement une meilleure résistance au fluage à froid, une meilleure flexibilité et une meilleure résistance de film, ainsi que de meilleures propriétés de conformité au substrat lors de la stratification et une meilleure aptitude au développement, mais il possède également d'excellentes propriétés de définition et d'adhérence. Il permet donc de former un dispositif semiconducteur, un écran, etc. haute performance.
Designated States: JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)