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1. (WO2000058252) HIGH-PURITY 1,3-PROPANEDIOL DERIVATIVE SOLVENT, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND USE THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/058252    International Application No.:    PCT/JP2000/002043
Publication Date: 05.10.2000 International Filing Date: 30.03.2000
IPC:
C07C 43/13 (2006.01), C07C 45/71 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01)
Applicants: DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1, Teppo-cho, Sakai-shi, Osaka 590-0905 (JP) (For All Designated States Except US).
TANIGAWA, Hiroto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYAKE, Hiroto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOYAMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUJITA, Akihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MARUO, Katsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TANIGAWA, Hiroto; (JP).
MIYAKE, Hiroto; (JP).
KOYAMA, Hiroshi; (JP).
FUJITA, Akihiko; (JP).
MARUO, Katsuya; (JP)
Agent: MIURA, Yoshikazu; Kurosusaido Kojimachi, 4, Kojimachi 5-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 102-0083 (JP)
Priority Data:
11/92842 31.03.1999 JP
11/301907 25.10.1999 JP
Title (EN) HIGH-PURITY 1,3-PROPANEDIOL DERIVATIVE SOLVENT, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND USE THEREOF
(FR) SOLVANT DERIVE DE 1,3-PROPANEDIOL TRES PUR, SON PROCEDE DE PRODUCTION ET SON UTILISATION
Abstract: front page image
(EN)A process for producing a 3-alkoxy-1-propanol having an alcoholic-impurity content of 0.3 wt.% or lower, which comprises reacting acrolein having a propionaldehyde content of 1 wt.% or lower with a C¿1-4? alcohol to yield a 3-alkoxy-1-propanal, hydrogenating it in the reactor to yield a 3-alkoxy-1-propanol and simultaneously reduce the residual aldehyde compound concentration in the crude hydrogenation product mixture to 0.5 wt.% or lower, and distilling the resultant crude hydrogenation product mixture; a solvent (a) which is a 1,3-propanediol alkyl ether, a 1,3-propane dialkyl ether acetate, or a mixture of these; and a solvent for resists, a detergent for lithography, a rinse for lithography, a solvent for resist compositions, a resist composition, or a photoresist resin composition for printed-circuit board production which each comprises or contains the solvent (a).
(FR)L'invention a trait à un procédé de production d'un 3-alcoxy-1-propanol présentant une teneur en impuretés alcooliques de 0,3 % en poids ou moins, lequel consiste à faire réagir une acroléine ayant une teneur en propionaldéhyde de 1 % en poids ou moins avec un alcool C¿1-4? pour produire un 3-alcoxy-1-propanal, à l'hydrogéner dans le réacteur pour produire un 3-alcoxy-1-propanol et réduire simultanément la concentration du composé d'aldéhyde résiduel dans le mélange du produit d'hydrogénration brut à 0,5 % en poids ou moins, et à distiller le mélange du produit d'hydrogénation brut résultant; un solvant (a) lequel est un éther 1,3-propanediol alcoylique, un acétate d'éther 1,3-propanedialcoylique, ou un mélange de ceux-ci; ainsi qu'un solvant pour résists, un détergent pour gravure, une solution de rinçage de gravure, un solvant pour compositions de résists, une composition de résist ou une composition de résine photorésist pour la production de cartes de circuits imprimés comprenant ou contenant chacun le solvant (a).
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)