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1. (WO2000058232) METHOD OF CONTROLLING FLUORINE DOPING IN SOOT PREFORMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/058232    International Application No.:    PCT/US2000/005947
Publication Date: 05.10.2000 International Filing Date: 07.03.2000
Chapter 2 Demand Filed:    30.06.2000    
IPC:
C03B 37/012 (2006.01), C03B 37/014 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01)
Applicants: CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza, Corning, NY 14831 (US)
Inventors: DELISO, Evelyn, M.; (US).
LACY, Claud, E.; (US).
MARLATT, Deborah, L.; (US)
Agent: CARLSON, Robert, L.; Corning Incorporated, Patent Dept., SP TI 3-1, Corning, NY 14831 (US)
Priority Data:
09/280,464 30.03.1999 US
Title (EN) METHOD OF CONTROLLING FLUORINE DOPING IN SOOT PREFORMS
(FR) PROCEDE DE REGULATION DU DOPAGE AU FLUOR DANS DES PREFORMES DE SUIE
Abstract: front page image
(EN)A method for controlling the refractive index achieved using a fluorine dopant gas, wherein CF¿4? is employed as the dopant gas, and the soot preform (12) is doped using the CF¿4? for a time and temperature sufficient to result in a decrease in fluorine dopant nearest the surface which is in contact with the CF¿4? gas. Preform (12) is mounted on handle (11) which is fused to handle (14) and the assembly (20) is heated in a furnace muffle (15). The CF¿4? flows through furnace muffle (15), as indicated by arrows (17), and preferably contains a diluent gas such as helium. An optional centerflow gas (16) may be flowed through the centerline hole (18) in several embodiments, which consists of helium. The end of the porous preform (12) may optionally include a capillary tube (19) to prevent the muffle gases (17) from entering the preform.
(FR)Cette invention concerne un procédé permettant de régler l'indice de réfraction obtenu par l'emploi d'un gaz dopant de fluor. On utilise du CF¿4? comme gaz dopant. On dope la préforme de suie (12) avec du gaz CF¿4? pendant suffisamment longtemps et à une température suffisante pour provoquer une baisse du dopant fluor aussi près que possible de la surface en contact avec le gaz CF¿4?. La préforme (12) est montée sur une poignée (11) qui est fixée par fusion sur la poignée (14). L'ensemble (20) est chauffé dans un moufle de four (15). Le CF¿4? passe au travers du mouffle (15), selon les flèches (17); il contient de préférence un dilluant tel que de l'hélium. En variante, et selon plusieurs modes de réalisation, on peut faire passer un gaz (16) composé d'hélium par le trou central longitudinal (18). L'extrémité de la préforme poreuse (12) peut éventuellement comporter un tube capillaire (19) destiné à empêcher les gaz de mouffle (17) de pénétrer dans la préforme.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)