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1. (WO2000058049) ARC-FREE ELECTRON GUN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/058049    International Application No.:    PCT/US2000/006015
Publication Date: 05.10.2000 International Filing Date: 08.03.2000
Chapter 2 Demand Filed:    17.10.2000    
IPC:
H01J 37/065 (2006.01)
Applicants: TFI TELEMARK [US/US]; 51 Whitney Place, Fremont, CA 94539 (US)
Inventors: ZUNIGA, Luis, A.; (US).
LAFRANCE, Michael, E.; (US).
WILLITZER, Larry, F.; (US).
JOHNSON, Christopher, S.; (US)
Agent: LIMBACH, Alan, A.; Limbach & Limbach L.L.P., 2001 Ferry Building, San Francisco, CA 94111 (US)
Priority Data:
09/283,898 30.03.1999 US
Title (EN) ARC-FREE ELECTRON GUN
(FR) CANON ELECTRONIQUE SANS ARC ELECTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)An electron gun that prevents undesirable arcing by providing an improved electrostatic field that generates a confined electron stream, an improved magnetic field that directs the confined electron stream to a crucible with minimal divergence, and an improved insulation on high voltage leads. The improved electrostatic field is provided by a cathode plate (20) disposed adjacent to a filament (24) and forming a cathode window (22) aligned to the filament (24). An anode plate (28) disposed adjacent to the cathode plate (20) forms an anode window (30) aligned to the cathode window (22). The cathode plate (20) and anode plate (28) form an electrostatic field and lensing effect that directs electrons emitted from the filament (24) through the cathode and anode windows with minimal divergence. The improved magnetic field is provided by a magnet having a pair of poles, a pair of extension plates each extending from the magnet poles, and a plurality of extension members that extend from the extension plates toward the path of the electron stream.
(FR)L'invention porte sur un canon électronique qui empêche la formation d'arcs électriques indésirables grâce à un meilleur champ électrostatique qui génère un flux d'électrons confinés, un meilleur champ magnétique qui dirige le flux d'électrons confinés sur un creuset avec une divergence minime, et une meilleure isolation sur des conducteurs haute tension. Le champ électrostatique amélioré est obtenu par une plaque (20) cathodique placée à côté d'un filament (24) et formant une fenêtre (22) cathodique alignée sur le filament (24). Une plaque (28) anodique placée à côté de la plaque (20) cathodique forme une fenêtre (30) anodique alignée sur la fenêtre (22) cathodique. La plaque (20) cathodique et la plaque (28) anodique forment un champ électrostatique et créent un effet lenticulaire qui dirige les électrons émis par le filament (24) dans les fenêtres cathodique et anodique avec une divergence minime. Le champ magnétique amélioré est obtenu par un aimant possédant une paire de pôles, une paire de plaques d'extension s'étendant depuis les pôles, et une pluralité d'éléments d'extension s'étendant depuis les plaques d'extension vers le trajet du flux d'électrons.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)