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Pub. No.:    WO/2000/057924    International Application No.:    PCT/CA2000/000326
Publication Date: 05.10.2000 International Filing Date: 24.03.2000
Chapter 2 Demand Filed:    17.10.2000    
A61K 51/12 (2006.01)
Applicants: LONDON HEALTH SCIENCES CENTRE [CA/CA]; Room A210, Nurses' Residence, South Street Site, Victoria Campus, 370 South Street, London, Ontario N6A 4G5 (CA) (For All Designated States Except US).
ZABEL, Pamela, Louise [CA/CA]; (CA) (For US Only).
DUNN, Kent [CA/CA]; (CA) (For US Only)
Inventors: ZABEL, Pamela, Louise; (CA).
DUNN, Kent; (CA)
Agent: BERESKIN & PARR; 40 King Street West, 40th floor, Toronto, Ontario M5H 3Y2 (CA)
Priority Data:
60/126,379 26.03.1999 US
Abstract: front page image
(EN)A new formulation of Tc-99m colloid is described. The new colloid contains a high ratio of perrhenate to thiosulphate, cysteine, and a prepared higher final pH than found previously. In preparing the colloid preferred rhenium sulfide is not used as an ingredient. The pH of the final formulation and can be between about 5.5 an about 8.0, and the ratio of rhenium to sulfur is from about 0.05 to about 1.2. In addition, the new colloid has excellent radiochemical purity, and a much smaller particle size distribution than has generally been previously available for sulfur colloid preparations.
(FR)La présente invention concerne une nouvelle formulation de colloïde Tc-99m. Le nouveau colloïde contient une proportion élevée de perrhenate par rapport au thiosulfate, la cystéine, et un pH final de préparation plus élevé que ce qui est connu jusqu'ici. Le sulfure de rhénium n'est pas utilisé comme ingrédient dans le mode de préparation préféré. Le pH de la formulation finale peut être compris entre environ 5.5 et environ 8.0, et le rapport du rhénium au soufre est compris entre environ 0.05 et environ 1.2. Par ailleurs, le nouveau colloïde présente une excellente pureté radiochimique, et une granulométrie nettement inférieure à celle obtenue jusqu'ici pour les préparations de colloïde au soufre.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)