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1. WO2000039525 - METHOD OF MANUFACTURING A VIBRATING STRUCTURE GYROSCOPE

Publication Number WO/2000/039525
Publication Date 06.07.2000
International Application No. PCT/GB1999/004298
International Filing Date 17.12.1999
Chapter 2 Demand Filed 23.06.2000
IPC
G01C 19/5684 2012.01
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
19Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
567using the phase shift of a vibration node or antinode
5677of essentially two-dimensional vibrators, e.g. ring-shaped vibrators
5684the devices involving a micromechanical structure
CPC
G01C 19/5684
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
19Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
567using the phase shift of a vibration node or antinode
5677of essentially two-dimensional vibrators, e.g. ring-shaped vibrators
5684the devices involving a micromechanical structure
Applicants
  • BAE SYSTEMS PLC [GB/GB]; Warwick House, P.O. Box 87 Farnborough Aerospace Centre Farnborough, Hampshire GU14 6YU, GB (AllExceptUS)
  • FELL, Christopher, Paul [GB/GB]; GB (UsOnly)
  • TOWNSEND, Kevin [GB/GB]; GB (UsOnly)
  • STURLAND, Ian [GB/GB]; GB (UsOnly)
Inventors
  • FELL, Christopher, Paul; GB
  • TOWNSEND, Kevin; GB
  • STURLAND, Ian; GB
Agents
  • ROONEY, Paul, Blaise ; BAE Systems Plc Group IP Dept. Lancaster House, P.O. Box 87 Farnborough Aerospace Centre Farnborough, Hampshire GU14 6YU, GB
Priority Data
9828478.924.12.1998GB
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) METHOD OF MANUFACTURING A VIBRATING STRUCTURE GYROSCOPE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN GYROSCOPE A STRUCTURE VIBRATOIRE
Abstract
(EN)
A vibrating structure gyroscope is made by depositing photoresist material (9) on a glass or silicon substrate (7), hardening, patterning and developing the photoresist (9) to expose areas of the substrate (7), etching the exposed areas to form cavities (10) therein, stripping any remaining photoresist material (9), attaching a silicon layer (8) to the cavitated substrate (7) depositing a layer of aluminium on the silicon layer (8), depositing photoresist material on the aluminium layer, hardening, patterning and developing the photoresist layer to expose areas of the aluminium layer, etching the exposed areas of the aluminium layer to leave regions of aluminium on the silicon layer providing bond pads (11, 12, 13 and 14), forming one more layer of patterned photoresist material on the structure and deep reactive ion etching the exposed areas of the silicon layer (8) to form therefrom the substantially planar ring vibrating structure (1) mounted by a hub (4) above the cavities (10).
(FR)
Selon cette invention, un gyroscope à structure vibratoire est obtenu par dépôt d'un matériau (9) de photorésine sur un susbtrat (7) de verre ou de silicium; par durcissement, moirage et développement de la photorésine (9) afin d'exposer des zones du substrat (7); par attaque chimique des zones exposées de façon à y former des cavités (10); par décapage de tout matériau (9) de photorésine restant; par fixation d'une couche (8) de silicium sur le substrat (7) constitué de cavités en déposant une couche d'aluminium sur la couche (8) de silicium; par dépôt d'un matériau de photorésine sur la couche d'aluminium; par durcissement, moirage et développement de la couche de photorésine de façon à exposer des zones de la couche d'aluminium; par attaque chimique des zones exposées de la couche d'aluminium de sorte que les régions d'aluminium de la couche de silicium forment des plots de connexion (11, 12, 13 et 14); par formation d'une couche supplémentaire de matériau de photorésine moirée sur la structure et par attaque profonde d'ions réactifs des zones exposées de la couche (8) de silicium de façon à former la structure (1) vibratoire annulaire pratiquement plane montée sur un moyeu (4) au-dessus des cavités (10).
Also published as
CZPV2001-2348
ININ/PCT/2001/00650/MUM
NO20013151
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