Processing

Please wait...

PATENTSCOPE will be unavailable a few hours for maintenance reason on Sunday 05.04.2020 at 10:00 AM CEST
Settings

Settings

1. WO2000038619 - POLYMERISABLE MATERIALS WHICH ARE BASED ON HARDENABLE SILOXANE COMPOUNDS

Publication Number WO/2000/038619
Publication Date 06.07.2000
International Application No. PCT/EP1999/010319
International Filing Date 22.12.1999
Chapter 2 Demand Filed 21.07.2000
IPC
A61K 6/093 2006.01
AHUMAN NECESSITIES
61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES
6Preparations for dentistry
02Use of preparations for artificial teeth, for filling or for capping teeth
08Use of natural or synthetic resins
087Compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
093Polyorganosilicon compounds
C07F 7/21 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC, OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
7Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
02Silicon compounds
21Cyclic compounds having at least one ring containing silicon but no carbon in the ring
CPC
A61K 6/887
AHUMAN NECESSITIES
61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES
6Preparations for dentistry
80Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
884comprising natural or synthetic resins
887Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
C07F 7/21
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
7Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
02Silicon compounds
21Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
Applicants
  • 3M ESPE AG [DE/DE]; Espe Platz D-82229 Seefeld, DE (AllExceptUS)
  • WEINMANN, Wolfgang [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • ZECH, Joachim [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • GASSER, Oswald [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • GUGGENBERGER, Rainer [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • ECKHARDT, Gunther [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • BISSINGER, Peter [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • SOGLOWEK, Wolfgang [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventors
  • WEINMANN, Wolfgang; DE
  • ZECH, Joachim; DE
  • GASSER, Oswald; DE
  • GUGGENBERGER, Rainer; DE
  • ECKHARDT, Gunther; DE
  • BISSINGER, Peter; DE
  • SOGLOWEK, Wolfgang; DE
Agents
  • ABITZ, Walter ; Postfach 86 01 09 D-81628 München, DE
Priority Data
198 60 364.924.12.1998DE
Publication Language German (DE)
Filing Language German (DE)
Designated States
Title
(DE) POLYMERISIERBARE MASSEN AUF DER BASIS VON ZUR AUSHÄRTUNG BEFÄHIGTEN SILOXANVERBINDUNGEN
(EN) POLYMERISABLE MATERIALS WHICH ARE BASED ON HARDENABLE SILOXANE COMPOUNDS
(FR) MATIERES POLYMERISABLES A BASE DE COMPOSES DE SILOXANE DURCISSABLES
Abstract
(DE)
Die Erfindung betrifft neue cyclische Siloxanverbindungen der allgemeinen Formel (I), welche trotz einer hohen Dichte an zur Polymerisation befähigten Gruppen eine niedrige Viskosität aufweisen, eine hohe Füllstoffaufnahme ermöglichen und zu Massen mit geringem Polymerisationsschrumpf führen. Die erfindungsgemässen Monomeren eignen sich insbesondere zur Herstellung von Dentalmaterialien.
(EN)
The invention relates to novel cyclic siloxane compounds of general formula (I) which despite having a high density of groups that are suitable for polymerisation, have a low viscosity, allow a high filler intake and result in substances with a low polymerisation shrinkage. The inventive monomers are especially suitable for producing dental materials.
(FR)
L'invention concerne de nouveaux composés de siloxane cycliques de formule (I), dans laquelle: n vaut 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 de préférence 1, 2, 3, 4, 5; A représente H ou alkyle C1-C15 ou alcényle C1-C15, cycloalkyle C3-C15 ou cycloalcényle C3-C15, aryle C6-C12, alkaryle C8-C18 (dans les groupes mentionnés, un ou plusieurs atomes de C pouvant être remplacés par O, C=O, O(C=O), SiR2 et/ou NR, R représentant un groupe aliphatique comportant 1 à 7 atomes de C, dans lequel un ou plusieurs atomes de C peuvent être remplacés par O, C=O et/ou O(C=O); B représente E ou un groupe hydrocarbure linéaire, ramifié ou polycyclique, renfermant des groupes aliphatiques ou aromatiques, qui relie entre eux 2 à 10 des groupes cyclosiloxane définis ci-dessus, à l'exception de B, et renferme 2 à 50 atomes de carbone et 0 à 30 autres atomes du groupe O, N, S, P, Si, Cl, F, Br, I, et auquel 1 à 9, de préférence 1 à 4 des groupes cyclosiloxane définis ci-dessus, à l'exception de B, sont liés; E représente A ou un groupe polymérisable G-Q-L, en moyenne jusqu'à 50 % ou moins des groupes E correspondant à des représentants de A; G représente alkyle C1-C10 ou alcénylène C1-C10; Q représente O, N-A ou un groupe alcool, amine ou aminoalcool présentant au moins deux sites radicalaires, linéaire, ramifié ou cyclique, comportant 2 à 10 atomes de C; L représente un groupe organique contenant une double liaison C=C et comportant 2 à 10 atomes de C; et à condition qu'aucun système siloxane annelé ne puisse être présent dans (I). L'invention concerne également des matériaux dentaires qui contiennent des composés de formule (I) et/ou des composés de formule (II), dans laquelle les groupes T représentent indépendamment l'un de l'autre H ou alkyle C1-C10 ou alcényle C1-C10, cycloalkyle C3-C10 ou cycloalcényle C3-C10, aryle C6-C12 ou alkaryle C8-C18; N représente un groupe polymérisable R1-R2-R3; b est compris entre 0 et 500, la proportion de b s'élevant au maximum à 50 % des motifs récurrents (b+c); c est compris entre 1 et 1000; R1 représente alkyle C1-C10 ou alcénylène C1-C10; R2 représente O, N-T ou un groupe alcool, amine ou aminoalcool présentant au moins deux sites radicalaires, linéaire, ramifié ou cyclique, comportant 2 à 10 atomes de C; R3 représente un groupe organique contenant une double liaison C=C et comportant 3 à 10 atomes de C; V représente SiMe2T, SiEt2T, SiMePhT, SiPh2T.
Latest bibliographic data on file with the International Bureau