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1. (WO2000030160) AUTOMATIC WAFER MAPPING IN A WET ENVIRONMENT ON A WAFER CLEANER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/030160    International Application No.:    PCT/US1999/027393
Publication Date: 25.05.2000 International Filing Date: 19.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    16.06.2000    
IPC:
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Applicants: SPEEDFAM-IPEC CORPORATION [US/US]; 305 N. 54th Street Chandler, AZ 85226 (US) (For All Designated States Except US).
NIMTZ, Jack, F. [US/US]; (US) (For US Only).
JORDAN, Ricardo, T. [US/US]; (US) (For US Only).
ALLEN, Robert, F. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: NIMTZ, Jack, F.; (US).
JORDAN, Ricardo, T.; (US).
ALLEN, Robert, F.; (US)
Agent: ZEMAN, Laura, J.; Snell & Wilmer One Arizona Center 400 East Van Buren Street Phoenix, AZ 85004-2202 (US)
Priority Data:
09/196,261 19.11.1998 US
Title (EN) AUTOMATIC WAFER MAPPING IN A WET ENVIRONMENT ON A WAFER CLEANER
(FR) LOCALISATION AUTOMATIQUE DE PLAQUETTES DANS UN ENVIRONNEMENT HUMIDE SUR UN DISPOSITIF DE NETTOYAGE DE PLAQUETTES
Abstract: front page image
(EN)A wafer mapping method and apparatus for automatically determining the location and orientation of workpieces within a workpiece processing tool. An illumination device is provided which directs light toward the edges of the workpieces and a vision system is utilized to receive and process the images obtained from the light which is reflected off the edges of the workpieces.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un dispositif de détermination automatique de la position et de l'orientation de pièces à ouvrer dans une installation de transformation. L'invention fait appel à un dispositif d'éclairage qui dirige un faisceau lumineux sur les bords de pièces à ouvrer, et à un système de vision pour la réception et le traitement des images fournies par le rayon lumineux réfléchi par les bords des pièces.
Designated States: DE, GB, JP, KR, SG, US.
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)