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1. (WO2000030065) A HIGH RESOLUTION AND HIGH LUMINANCE PLASMA DISPLAY PANEL AND DRIVE METHOD FOR THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/030065    International Application No.:    PCT/JP1999/006192
Publication Date: 25.05.2000 International Filing Date: 08.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    02.06.2000    
IPC:
G09G 3/10 (2006.01), G09G 3/292 (2013.01), G09G 3/294 (2013.01), G09G 3/296 (2013.01), H01J 17/49 (2012.01), G09G 3/293 (2013.01), G09G 5/399 (2006.01)
Applicants: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, OazaKadoma Kadoma-shi, Osaka 571-8501 (JP) (For All Designated States Except US).
HIBINO, Junichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIGASHINO, Hidetaka [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAGAO, Nobuaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SEKIZAWA, Masaru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYASHITA, Kanako [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OOKAWA, Masafumi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIBINO, Junichi; (JP).
HIGASHINO, Hidetaka; (JP).
NAGAO, Nobuaki; (JP).
SEKIZAWA, Masaru; (JP).
MIYASHITA, Kanako; (JP).
OOKAWA, Masafumi; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Shiro; 6F, Yodogawa 5-Bankan 2-1, Toyosaki 3-chome Kita-ku Osaka-shi Osaka 531-0072 (JP)
Priority Data:
10/324074 13.11.1998 JP
Title (EN) A HIGH RESOLUTION AND HIGH LUMINANCE PLASMA DISPLAY PANEL AND DRIVE METHOD FOR THE SAME
(FR) ECRAN A PLASMA A HAUTE RESOLUTION ET HAUTE LUMINANCE ET SON PROCEDE DE COMMANDE
Abstract: front page image
(EN)When a gas discharge panel is driven, a voltage is applied between scan and address electrode groups to perform set-up. The voltage waveform has four intervals. In a first interval, the voltage is raised in a short time (less than 10 $g(m)s) to a first voltage, wherein 100 V $m(F)first voltage $m(f) starting voltage. Then, in a second interval, the voltage is raised to a second voltage no less than the starting voltage and with an absolute gradient smaller than that for the voltage rise in the first interval (no more than 9 V/$g(m)s). Next, in a third interval, the voltage is lowered in a short time (no more than 10 $g(m)s) from the second voltage to a third voltage no more than the starting voltage. Following this, in a fourth interval, the voltage is lowered still further (for 100 $g(m)s to 250 $g(m)s) with a gradient smaller than that for the voltage fall in the third interval. The time occupied by the whole voltage waveform should be no more than 360 $g(m)s. This means that a wall charge can be properly accumulated, allowing stable addressing to be performed even when the pulse applied during the address period is short (no more than 1.5 $g(m)s). This lengthens the discharge sustain period and improves luminance.
(FR)Lorsqu'un écran à plasma est alimenté, une tension est appliquée entre des groupes d'électrodes de balayage et d'adresse pour assurer l'installation. La forme d'onde de tension comprend quatre intervalles. Dans un premier intervalle, la tension est élevée pendant un laps de temps court (moins de 10 µs) à une première tension, et 100 V < première tension < tension de démarrage. Ensuite, dans un deuxième intervalle, la tension est élevée à une deuxième tension non inférieure à la tension de démarrage et avec un gradient absolu inférieur à celui de l'augmentation de tension dans le premier intervalle (pas plus de 9V/µs). Ensuite, dans un troisième intervalle, la tension est abaissée pendant un laps de temps court (pas plus de 10 µs) depuis la deuxième tension jusqu'à une troisième tension ne dépassant pas la tension de démarrage. Après quoi, dans un quatrième intervalle, la tension est encore abaissée (pendant 100 à 250 µs) avec un gradient inférieur à celui de la chute de tension dans le troisième intervalle. Le temps occupé par la forme d'onde de la tension totale ne doit pas excéder 360 µs. Cela signifie qu'une charge de paroi peut être accumulée correctement, ce qui assure un adressage stable même lorsque l'impulsion appliquée pendant la période d'adresse est courte (pas plus de 1,5 µs). Cela rallonge la période de soutien de la charge et améliore la luminance.
Designated States: CN, US.
European Patent Office (DE, GB).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)