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1. (WO2000029907) PRIMING COMPOSITION FOR BONDING PHOTORESISTS ON SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/029907    International Application No.:    PCT/US1998/023243
Publication Date: 25.05.2000 International Filing Date: 12.11.1998
Chapter 2 Demand Filed:    09.06.2000    
IPC:
G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: THOMPSON, Andrew, Michael [US/US]; (US)
Inventors: THOMPSON, Andrew, Michael; (US)
Agent: MORDUCH, Ruth, N.; Pillsbury Madison & Sutro 1100 New York Avenue, N.W. Washington, DC 20005 (US)
Priority Data:
Title (EN) PRIMING COMPOSITION FOR BONDING PHOTORESISTS ON SUBSTRATES
(FR) COMPOSITION D'APPRET PERMETTANT DE COLLER DES PHOTORESINES SUR DES SUBSTRATS
Abstract: front page image
(EN)A priming concentrate composition is provided that may be deposited on a substrate and functions as an adhesion promoting composition for bonding a subsequently applied photoresist to the substrate. The composition contains, as an essential constituent, a polyelectrolyte having substituents derived from cyclic ethers, preferably epichlorohydrin and/or ethylene oxide. The priming composition can be applied to a stationary or moving substrate, as a concentrate or further diluted with an aqueous medium, by brushing, spraying or immersing and the like.
(FR)L'invention se rapporte à une composition concentrée d'apprêt qui peut être déposée sur un substrat et joue le rôle de composition favorisant l'adhésion en vue du collage d'une photorésine appliquée ultérieurement sur le substrat. La composition contient, en tant qu'ingrédient principal, un polyélectrolyte ayant des substituants dérivés d'éthers cycliques, de préférence de l'épichlorohydrine et/ou de l'oxyde d'éthylène. Cette composition d'apprêt peut être appliquée sur un substrat fixe ou mobile, sous forme de concentré ou sous forme diluée dans un milieu aqueux, par brossage, pulvérisation ou immersion et analogue.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)