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1. (WO2000029799) APPARATUS AND METHOD FOR THERMAL PROCESSING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/029799    International Application No.:    PCT/US1999/026861
Publication Date: 25.05.2000 International Filing Date: 12.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    13.06.2000    
IPC:
C30B 31/12 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: MATTSON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 2800 Bayview Drive Fremont, CA 94538 (US)
Inventors: JOHNSGARD, Kristian, E.; (US).
DAVIET, Jean-François; (US).
GIVENS, James, A.; (US).
SAVAS, Stephen, E.; (US).
MATTSON, Brad, S.; (US).
ATANOS, Ashur, J.; (US)
Agent: MURPHY, Michael, J.; Wilson Sonsini Goodrich & Rosati 650 Page Mill Road Palo Alto, CA 94304-1050 (US)
Priority Data:
60/108,313 13.11.1998 US
not furnished 12.11.1999 US (Priority Withdrawn 05.01.2000)
Title (EN) APPARATUS AND METHOD FOR THERMAL PROCESSING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
(FR) TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS POUR SEMI-CONDUCTEURS ET APPAREIL A CET EFFET
Abstract: front page image
(EN)A dual resistive heater system includes a base or primary heater (120A), surrounded by a peripheral or edge heater (120B). Both resistive heaters deliver heat to a heated block, and the heaters and heated block are substantially enclosed within an insulated cavity (130A-H). The walls of the insulated cavity may include multiple layers of insulation, and these layers may be substantially concentrically arranged. The innermost layers (130A-D) may be silicon carbide coated graphite; the outer layers (130G-H) may be opaque quartz. A vacuum spool (143) has a large conduction pathway (1010) for exhausting gases from the region of the chamber containing the resistive heaters, and a small conduction pathway (1020) for removing gases from other regions of the chamber. Temperature measurement sensors include thermocouples (610) and optical pyrometers (630), wherein the thermocouple may be used to calibrate an optical pyrometer in situ.
(FR)La présente invention concerne un système de double résistance chauffante constitué d'une résistance de base ou résistance primaire (120A) entourée d'une résistance périphérique (120 B). Ces deux résistances chauffantes alimentent en énergie thermique un accumulateur thermique, les résistances et l'accumulateur étant sensiblement inclus dans une cavité isolée (130A-H). Les parois de la cavité isolée peuvent comporter plusieurs couches isolantes sensiblement concentriques. Les couches de l'intérieur (130A-D) sont généralement en graphite recouvert de carbure de silicium. Les couches de l'extérieur (130G-H) sont généralement en quartz opaque. Une bobine d'éduction (143) comporte un chemin de conduction long (1010) permettant l'évacuation des gaz de la région de la chambre contenant les résistances chauffantes, avec un chemin de conduction court (1020) pour l'expulsion des gaz des autres régions de la chambre. Les sondes thermiques utilisées sont essentiellement des thermocouples (610) et des pyromètres optiques (630), l'avantage en étant que le thermocouple peut servir à l'étalonnage in situ du pyromètre optique.
Designated States: JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)