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1. (WO2000029450) REDUCING SCALE IN VINYL POLYMERIZATIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/029450    International Application No.:    PCT/GB1999/002474
Publication Date: 25.05.2000 International Filing Date: 29.07.1999
Chapter 2 Demand Filed:    27.04.2000    
IPC:
C08F 2/00 (2006.01)
Applicants: OCCIDENTAL CHEMICAL CORPORATION [US/US]; Occidental Tower Suite 1500 5005 LBJ Freeway Dallas, TX 75244 (US).
STEPHENS, Dinah [GB/US]; (US) (IS only)
Inventors: KRISHNAMURTI, Ramesh; (US).
NAGY, Sandor, Michael; (US).
HICHRI, Habib; (US).
SMOLKA, Thomas, Francis; (US)
Agent: FRANKLAND, Nigel, H.; Forrester Ketley & Co. Forrester House 52 Bounds Green Road London N11 2EY (GB)
Priority Data:
09/193,919 17.11.1998 US
Title (EN) REDUCING SCALE IN VINYL POLYMERIZATIONS
(FR) REDUCTION DES DEPOTS DANS LES POLYMERISATIONS VINYLIQUES
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method of inhibiting the formation of scale on reactor surfaces in contact with a polymerizing vinyl monomer. The reactor surfaces are contacted with a composition that contains, as a scale reducing agent, an acidic hydrazone condensate or a salt thereof. The scale reducing agent can be added to the polymerizing monomer or it can be placed in a composition containing a surfactant and an inorganic binder and the composition can be applied to the reactor surfaces or added to the monomer.
(FR)L'invention concerne un procédé, permettant d'inhiber la formation de dépôts sur les surfaces d'un réacteur en contact avec un monomère vinylique en polymérisation. Les surfaces du réacteur sont mises en contact avec une composition qui contient, comme agent de réduction de dépôt, un condensat d'hydrazone acide ou un sel de celui-ci. L'agent de réduction de dépôt peut être ajouté au monomère en polymérisation, ou être placé dans une composition renfermant un tensioactif et un lieur inorganique, ladite composition pouvant être appliquée sur les surfaces du réacteur ou ajoutée au monomère.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)