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1. (WO2000029330) THIN HAFNIUM OXIDE FILM AND METHOD FOR DEPOSITING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/029330    International Application No.:    PCT/FR1999/002797
Publication Date: 25.05.2000 International Filing Date: 15.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    27.05.2000    
IPC:
C01G 27/02 (2006.01), C03C 17/245 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), G02B 1/10 (2006.01), G02B 5/28 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31-33, rue de la Fédération F-75752 Paris 15ème (FR) (For All Designated States Except US).
ANDRE, Bernard [FR/FR]; (FR) (For US Only).
DIJON, Jean [FR/FR]; (FR) (For US Only).
RAFIN, Brigitte [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: ANDRE, Bernard; (FR).
DIJON, Jean; (FR).
RAFIN, Brigitte; (FR)
Agent: BRYKMAN, Georges; Brevatome 3, rue du Docteur Lancereaux F-75008 Paris (FR)
Priority Data:
98/14350 16.11.1998 FR
Title (EN) THIN HAFNIUM OXIDE FILM AND METHOD FOR DEPOSITING SAME
(FR) COUCHE MINCE D'OXYDE D'HAFNIUM ET PROCEDE DE DEPOT
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns a thin hafnium oxide film or a stack of thin films comprising hafnium oxide for treating optical surfaces, or optical components. The invention is characterised in that at least one hafnium oxide film is in amorphous form with density less than 8 g/cm?3¿. The invention also concerns a method for producing an amorphous hafnium oxide film on a substrate, characterised in that it is deposited without energising the substrate.
(FR)Couche mince d'oxyde d'hafnium ou empilement de couches minces comportant des couches d'oxyde d'hafnium pour réaliser des traitements de surface de composants optiques, ou des composants optiques, caractérisé en ce qu'au moins une couche d'oxyde d'hafnium est sous forme amorphe avec une densité inférieure à 8 g/cm?3¿. L'invention concerne aussi un procédé de réalisation d'une couche d'oxyde d'hafnium amorphe sur un substrat, caractérisé en ce que le dépôt est effectué sans apport énergétique au substrat.
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)