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1. (WO2000028587) PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/028587    International Application No.:    PCT/JP1999/006226
Publication Date: 18.05.2000 International Filing Date: 09.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    06.03.2000    
IPC:
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
SAEKI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUSHIMA, Keiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ASAKAWA, Teruo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NARUSHIMA, Masaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAEKI, Hiroaki; (JP).
MATSUSHIMA, Keiichi; (JP).
ASAKAWA, Teruo; (JP).
NARUSHIMA, Masaki; (JP)
Agent: SATO, Kazuo; Kyowa Patent & Law Office Fuji Building, Room 323 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0005 (JP)
Priority Data:
10/334974 09.11.1998 JP
Title (EN) PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Abstract: front page image
(EN)A processing device wherein two load lock chambers (130, 132) are installed between first and second transport chambers (122, 133), each load lock chamber being capable of receiving only a single wafer (W), the first transport chamber (122) being provided with a first transport device (124) having two holder portions (124a, 124b) each capable of holding only one object to be processed and independently movable, in order to transport wafers between a load port site (120), the load lock chamber (130) and a positioning device (150), the second transport chamber (133) being provided with a second transport device (156) having two holder portions (156a, 156b) each capable of holding only one object to be processed and independently movable, in order to transport wafers between the load lock chamber (130) and vacuum processing chambers (158-164). Since the volume of the load lock chamber can be minimized, atmosphere conditioning of the load lock chamber can be quickly made. Further, quick delivery of wafers is possible.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement dans lequel deux sas de chargement (130, 132) sont installés entre une première et une deuxième chambres de transport (122, 133), chaque sas de chargement ne pouvant recevoir qu'une seule plaquette (W). La première chambre de transport (122) comporte un premier dispositif de transport (124) qui présente deux parties de retenue (124a, 124b) ne pouvant accueillir chacune qu'un seul objet à traiter et pouvant être déplacée de manière indépendante pour transporter les plaquettes entre un point de chargement (120), le sas de chargement (130) et un dispositif de positionnement (150). La deuxième chambre de transport (133) comporte un deuxième dispositif de transport (156) qui présente deux parties de retenue (124a, 124b) ne pouvant accueillir chacune qu'un seul objet à traiter et pouvant être déplacée de manière indépendante pour transporter les plaquettes entre le sas de chargement (130) et des chambres de traitement sous vide (158 à 164). Puisque le volume du sas de chargement peut être réduit au minimum, le conditionnement atmosphérique du sas de chargement peut s'effectuer rapidement. Il est également possible d'effectuer un acheminerment rapide des plaquettes.
Designated States: KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)