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1. (WO2000028382) PHOTOSENSITIVE COMPOUNDS, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, AND PATTERN FORMATION METHOD MAKING USE OF THE COMPOUNDS OR COMPOSITIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/028382    International Application No.:    PCT/JP1998/005028
Publication Date: 18.05.2000 International Filing Date: 09.11.1998
IPC:
G03F 7/012 (2006.01)
Applicants: TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 1603, Kamimyoden Ichikawa-shi Chiba 272-0012 (JP)
Inventors: SHIBUYA, Toru; (JP).
XIE, Jian, Rong; (JP).
TOCHIZAWA, Noriaki; (JP)
Agent: KURIHARA, Hiroyuki; 5th floor, Kougetsu Building 5-2, Ebisu 1-chome Shibuya-ku Tokyo 150-0013 (JP)
Priority Data:
Title (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOUNDS, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, AND PATTERN FORMATION METHOD MAKING USE OF THE COMPOUNDS OR COMPOSITIONS
(FR) COMPOSES PHOTOSENSIBLES, COMPOSITIONS DE RESINE PHOTOSENSIBLE, PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT LES COMPOSES OU LES COMPOSITIONS
Abstract: front page image
(EN)The photosensitive compound of the present invention contains the unit (I) and is particularly expressed by the following formula (III). Different photosensitive resin compositions can be prepared from this novel photosensitive resin compound, and the thus-obtained photosensitive resin compositions do not raise the problem of environmental pollution, are endowed with high resolution, possess a high level of sensitivity, and exhibit excellent adhesion with substrates, coating characteristics, and storage stability.
(FR)Le composé photosensible de la présente invention contient l'unité (I) et il est exprimé en particulier par la formule générale (III). Différentes compositions de résine photosensible peuvent être préparées à partir de ce nouveau composé de résine photosensible, et les compositions de résine photosensible ainsi obtenues n'aggravent pas le problème de la pollution de l'environnement, elles sont dotées d'une haute résolution, elles possèdent un niveau élevé de sensibilité et présentent une excellente adhésion sur des substrats, d'excellentes caractéristiques de revêtement et une excellente stabilité au stockage.
Designated States: AU, BY, CA, ID, MX, NO, RU, SG, UA.
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)