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1. (WO2000028192) METHOD OF COMPENSATION FOR FLUX CONTROL OF AN ELECTROMECHANICAL ACTUATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/028192    International Application No.:    PCT/US1999/026051
Publication Date: 18.05.2000 International Filing Date: 05.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    06.06.2000    
IPC:
F01L 9/04 (2006.01), H01F 7/18 (2006.01)
Applicants: SIEMENS AUTOMOTIVE CORPORATION [US/US]; 2400 Executive Hills Drive Auburn Hills, MI 48326 (US) (For All Designated States Except US).
WRIGHT, Danny, Orlen [US/US]; (US).
CZIMMEK, Perry, Robert [US/US]; (US)
Inventors: WRIGHT, Danny, Orlen; (US).
CZIMMEK, Perry, Robert; (US)
Agent: MORGAN, LEWIS & BOCKIUS LLP; 1800 M Street Washington, DC 20036-5869 (US)
Priority Data:
60/107,397 06.11.1998 US
unassigned 05.11.1999 US (Priority Withdrawn 10.01.2000)
Title (EN) METHOD OF COMPENSATION FOR FLUX CONTROL OF AN ELECTROMECHANICAL ACTUATOR
(FR) PROCEDE DE COMPENSATION POUR COMMANDE DE FLUX D'UN ACTIONNEUR ELECTROMAGNETIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method of controlling velocity of an armature of an electromagnetic actuator as the armature moves from a first position towards a second position is provided. The electromagnetic actuator includes a coil and a core at the second position. The coil generates a magnetic force to cause the armature to move towards and land at the second position. A control method is provided to ensure a near zero velocity landing of the armature in the second position while compensating for non-ideal external influences on the system.
(FR)L'invention concerne un procédé servant à commander la vitesse de l'induit d'un actionneur électromagnétique lorsque ledit induit se déplace d'une première position vers une seconde position. L'actionneur électromagnétique comprend, au niveau de la seconde position, une bobine et un noyau. La bobine produit une force magnétique qui permet à l'induit de se déplacer vers la seconde position et à s'y placer. Un procédé de commande permet d'assurer une vitesse de placement proche de zéro de l'induit dans la seconde position, tout en compensant des influences extérieures non idéales sur le système.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)