WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2000027552) CONTINUOUS CLEANING MEGASONIC TANK WITH REDUCED DUTY CYCLE TRANSDUCERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/027552    International Application No.:    PCT/US1999/026768
Publication Date: 18.05.2000 International Filing Date: 09.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    08.06.2000    
IPC:
B08B 3/12 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: TANG, Jianshe; (US).
BROWN, Brian, J.; (US).
FISHKIN, Boris; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 12400 Wilshire Boulevard 7th floor Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
09/191,058 11.11.1998 US
Title (EN) CONTINUOUS CLEANING MEGASONIC TANK WITH REDUCED DUTY CYCLE TRANSDUCERS
(FR) CUVE MEGASONIQUE DE NETTOYAGE EN CONTINU A TRANSDUCTEURS A CYCLE DE TRAVAIL REDUIT
Abstract: front page image
(EN)A sonic tank (11) for cleaning substrates (19) is provided. The tank has two or more upwardly angled walls (13). Arrays of one or more transducers (15, 17) are positioned along at least two of the two or more angled walls. The transducer arrays (15, 17) are alternately energized maintaining nearly 100% substrate surface cleaning at any given time, and 50% duty cycle (or less) for each transducer array. The substrate supports (21a-c) are positioned such that nearly every point along the substrate's surface is contacted by energy from at least one transducer, and transducer opposing walls are positioned to avoid interfering reflections therefrom.
(FR)Cette invention a trait à une cuve sonique (11) de nettoyage de substrats (19) par ultrasons. Cette cuve possède deux parois (13) inclinées vers le haut, sinon plusieurs. Des ensembles d'un ou de plusieurs transducteurs (15, 17) sont placés le long des deux parois inclinées au moins ou le long de deux parois de la pluralité des parois. Ces ensembles de transducteurs (15, 17), qui sont excités alternativement, assurent un nettoyage à près de 100 % de la surface du substrat à tout moment mais n'assurent qu'un cycle de travail à 50 % (ou moins) pour chaque ensemble. Les supports de substrat (21a-c) sont disposés de telle sorte que presque tous les points de la surface du substrat sont soumis aux effets de l'énergie émanant d'au moins un transducteur. Les transducteurs des parois opposées sont positionnés de manière à éviter des interférences de réflexion.
Designated States: JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)