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1. (WO2000026435) APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING LOW K DIELECTRIC MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/026435    International Application No.:    PCT/US1999/025631
Publication Date: 11.05.2000 International Filing Date: 01.11.1999
Chapter 2 Demand Filed:    31.05.2000    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/452 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: KAO, Yeh-Jen; (US).
CHANG, Fong, M.; (US).
MAJEWSKI, Robert, B.; (US).
PARKS, John; (US).
WANAMAKER, David; (US).
WANG, Yen-Kun; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
09/184,934 02.11.1998 US
Title (EN) APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING LOW K DIELECTRIC MATERIALS
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE DEPOT DE MATERIAUX A FAIBLE CONSTANTE DIELECTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)The invention provides a deposition system and methods of depositing materials onto substrates. In one aspect, a modular processing chamber (10) is provided which includes a chamber body (12, 16, 18) defining a processing region (14). The chamber body includes a removable gas feedthrough (34), an electrical feedthrough (22), a gas distribution assembly (56) mounted on a chamber lid (54) and a microwave applicator (72) for generating reactive gases remote from the processing region.
(FR)L'invention concerne un système de dépôt et des procédés de dépôt de matériaux sur un substrat. Selon un mode de réalisation, une chambre (10) de traitement modulaire comporte un corps (12, 16, 18) qui définit une zone de traitement (14). Le corps de la chambre comprend une traversée (34) de gaz amovible, une traversée électrique (22), un ensemble (56) distributeur de gaz monté sur le couvercle (54) de la chambre et un applicateur hyperfréquence (72) conçu pour la production de gaz réactifs à distance de la zone de traitement.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)