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1. (WO2000024842) A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY SYSTEM HAVING AN ACTIVATOR SOLUTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/024842    International Application No.:    PCT/US1999/024864
Publication Date: 04.05.2000 International Filing Date: 22.10.1999
Chapter 2 Demand Filed:    23.05.2000    
IPC:
C09G 1/02 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Applicants: ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. [US/US]; 501 Merritt 7 Norwalk, CT 06856-4500 (US)
Inventors: MAHULIKAR, Deepak; (US)
Agent: GREELEY, Paul, D.; Ohlandt, Greeley, Ruggiero & Perle, L.L.P. 9th floor One Landmark Square Stamford, CT 06901-2682 (US)
Priority Data:
60/105,366 23.10.1998 US
Title (EN) A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY SYSTEM HAVING AN ACTIVATOR SOLUTION
(FR) SYSTEME DE BOUE DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE COMPRENANT UNE SOLUTION ACTIVATRICE
Abstract: front page image
(EN)This invention relates to a CMP slurry system for use in semiconductor manufacturing. The slurry system comprises two parts. The first part is a generic dispersion that only contains an abrasive and, optionally, a surfactant and a stabilizing agent. The generic dispersion can be used for polishing metals as well as interlayer dielectrics (ILD). The second part is a novel activator solution comprising at least two components selected from the group consisting of: an oxidizer, acids, amines, chelating agents, fluorine-containing compounds, corrosion inhibitors, buffering agents, surfactants, biological agents and mixtures thereof.
(FR)L'invention concerne un système de boue de polissage chimico-mécanique destinée à être utilisée pour la fabrication de semi-conducteurs. Le système de boue est composée de deux parties. La première partie est une dispersion générique qui ne contient qu'un agent abrasif et, éventuellement, un agent surfactant et un agent stabilisant. La dispersion générique peut servir à polir des métaux et des diélectriques intercouches (ILD). La seconde partie est une nouvelle solution activatrice composée d'au moins deux constituants sélectionnés dans un groupe comprenant: des oxydants, des acides, des amines, des agents chélateurs, des composés contenant du fluor, des inhibiteurs de corrosion, des agents tampons, des surfactants, des agents biologiques et des mélanges de ces derniers.
Designated States: JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)