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1. (WO2000024534) WIPER FOR LIQUID SUBSTANCES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/024534    International Application No.:    PCT/JP1999/005653
Publication Date: 04.05.2000 International Filing Date: 14.10.1999
IPC:
B21B 13/14 (2006.01), B21B 27/02 (2006.01), B21B 27/03 (2006.01), B21B 31/20 (2006.01), B21B 45/02 (2006.01), F26B 5/14 (2006.01), F26B 13/28 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP) (For All Designated States Except US).
KAJIHARA, Tetsuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOUMOTO, Eiji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HANGAI, Yoichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAJIHARA, Tetsuo; (JP).
MATSUO, Hiroshi; (JP).
KOUMOTO, Eiji; (JP).
HANGAI, Yoichi; (JP)
Agent: MITSUISHI, Toshiro; Mitsuishi Law and Patent Office Nihontanpahoso-kaikan 9-15, Akasaka 1-chome Minato-ku, Tokyo 107-0052 (JP)
Priority Data:
10/303873 26.10.1998 JP
Title (EN) WIPER FOR LIQUID SUBSTANCES
(FR) DISPOSITIF D'ESSUYAGE POUR SUBSTANCES LIQUIDES
Abstract: front page image
(EN)A wiper for removing rolling mill oil adhering to a moving strip (2) by holding the strip (2) between upper and lower wiper rolls (3, 4), wherein backup rolls (5, 6) reinforcing the wiper rolls (3, 4) each have a single sleeve (14) rotatably supported on a roll shaft through two bearings (13), the bearings (13) being disposed on the roll shaft with a span shorter than the sleeve length and with point-symmetry with respect to the upper and lower backup rolls (5, 6), thereby ensuring that the contact line pressure distribution of the wiper rolls (3, 4) against the strip (2) is uniform.
(FR)Un dispositif d'essuyage destiné à éliminer l'huile de laminoir qui adhère à une bande mobile (2) retient ladite bande (2) entre des rouleaux (3, 4) d'essuyage supérieur et inférieur eux-mêmes renforcés dans leur action par des rouleaux supplémentaires (5,6) comprenant une gaine unique (14) montée rotative sur un axe de rouleau et supportée par deux paliers (13), ces paliers (13) étant situés sur l'axe de rouleau de manière à ce que leur longueur soit inférieure à celle de la gaine et qu'ils présentent un point de symétrie par rapport aux rouleaux supplémentaires (5, 6) supérieur et inférieur, ceci assurant l'uniformité de la distribution de la pression de la ligne de contact des rouleaux (3, 4) d'essuyage contre la bande (2).
Designated States: CN, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)