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1. (WO2000024323) A METHOD AND A DEVICE FOR MARKING SURFACES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/024323    International Application No.:    PCT/SE1999/001924
Publication Date: 04.05.2000 International Filing Date: 25.10.1999
Chapter 2 Demand Filed:    09.05.2000    
IPC:
A61B 17/32 (2006.01), A61B 19/00 (2006.01)
Applicants: P PRISELL AB [SE/SE]; Ringvägen 40 S-118 07 Stockholm (SE) (For All Designated States Except US).
PRISELL, Per [SE/SE]; (SE) (For US Only)
Inventors: PRISELL, Per; (SE)
Agent: BERGVALL EFTRING, Stina, Lena; Dr. Ludwig Brann Patentbyrå AB P.O. Box 17192 S-104 62 Stockholm (SE)
Priority Data:
9803647-8 23.10.1998 SE
Title (EN) A METHOD AND A DEVICE FOR MARKING SURFACES
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MARQUAGE DE SURFACES
Abstract: front page image
(EN)A method for indicating the periphery line (1) of a patch (2) of an optionally resilient surface layer (3) of a substrate object, which patch is intended to be removed in a step, which may cause a change of the appearance of the surface, which method comprises the application on the surface of an adhesive mask, comprising an outer, 'negative' (4a), and/or optionally an inner, slat/'positive' (4b), mask component, comprising one or more layers of a sheet material, which can be brought to adhere to the surface of the object, wherein the negative mask (4a) comprises a main opening (7) with a borderline, which forms an inner borderline (5a) of the mask, and the positive mask (4b) comprises a slab with a borderline, which forms an outer borderline (5b) of the mask, said inner and/or outer borderlines having essentially the shape of the intended periphery line (1) of the patch (2) of the surface layer intended to be removed, said main opening or slab having circular or preferably elongated, non-circular shape, preferably with a ratio of lengthwise extension to transverse extension of at least 1,5, at least 2 or at least 3 and optionally at most 10.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de matérialiser le tracé périphérique (1) d'une pastille (2) sur la couche superficielle (3) éventuellement souple d'un substrat. Le retrait de cette pastille, qui doit s'effectuer d'un bloc, peut modifier l'aspect de la surface. Ce procédé consiste à appliquer sur la surface un masque d'adhésion qui comprend un élément extérieur « négatif » (4a) et/ou un élément intérieur, « positif » (4b) fait d'une ou plusieurs couches de matériau en feuille que l'on peut faire adhérer à la surface de l'objet. Le masque négatif (4) comprend une ouverture principale (7) avec un bord qui constitue de bord intérieur (4a) du masque; le masque positif 4b comprend une plaque avec un bord formant le bord extérieur (5b) du masque. Lesdits bords intérieurs et/ou extérieurs présentent sensiblement la forme du tracé périphérique (1) de la pastille (2) à retirer de la couche superficielle. Lesdites ouverture principale ou plaque présentent une forme circulaire, ou de préférence allongée non circulaire, dont le rapport longueur-largeur est de préférence d'au moins 1,5, d'au moins 2,5 ou d'au moins 3, et éventuellement de 10 au maximum.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)