Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2000009797) BASE MATERIAL FOR RADIATION GRAFT POLYMERIZATION AND RAW MATERIAL FOR FILTER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2000/009797 International Application No.: PCT/JP1999/004307
Publication Date: 24.02.2000 International Filing Date: 10.08.1999
Chapter 2 Demand Filed: 22.12.1999
IPC:
B01D 39/08 (2006.01) ,B01D 39/16 (2006.01) ,D06M 14/26 (2006.01)
B PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01
PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
D
SEPARATION
39
Filtering material for liquid or gaseous fluids
08
Filter cloth, i.e. woven, knitted or interlaced material
B PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01
PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
D
SEPARATION
39
Filtering material for liquid or gaseous fluids
14
Other self-supporting filtering material
16
of organic material, e.g. synthetic fibres
D TEXTILES; PAPER
06
TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
M
TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D0664
14
Graft polymerisation of monomers containing carbon-to-carbon unsaturated bonds on to fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials
18
using wave energy or particle radiation
26
on to materials of synthetic origin
Applicants:
SUGO, Takanobu [JP/JP]; JP (UsOnly)
FUJIWARA, Kunio [JP/JP]; JP (UsOnly)
KAWAZU, Hideo [JP/JP]; JP (UsOnly)
MASUBUCHI, Teruo [JP/JP]; JP (UsOnly)
KANNO, Junichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
ENDO, Naotoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
AKAHORI, Masaji [JP/JP]; JP (UsOnly)
EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho Ohta-ku Tokyo 144-8510, JP (AllExceptUS)
JAPAN ATOMIC ENERGY RESEARCH INSTITUTE [JP/JP]; 2-2, Uchisaiwai-cho 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0011, JP (AllExceptUS)
Inventors:
SUGO, Takanobu; JP
FUJIWARA, Kunio; JP
KAWAZU, Hideo; JP
MASUBUCHI, Teruo; JP
KANNO, Junichi; JP
ENDO, Naotoshi; JP
AKAHORI, Masaji; JP
Agent:
SHAMOTO, Ichio ; Yuasa and Hara, Section 206 New Ohtemachi Building 2-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0004, JP
Priority Data:
10/22776712.08.1998JP
10/22776812.08.1998JP
10/24102312.08.1998JP
Title (EN) BASE MATERIAL FOR RADIATION GRAFT POLYMERIZATION AND RAW MATERIAL FOR FILTER
(FR) MATERIAU DE BASE POUR POLYMERISATION AVEC GREFFAGE PAR RAYONNEMENT ET MATIERE PREMIERE DE FILTRE
Abstract:
(EN) One embodiment of the invention is a polymeric base material in the form of a woven or nonwoven fabric for radiation graft polymerization characterized by comprising a woven or nonwoven fabric comprised of polymer fibers and a polymeric reinforcing agent which has higher strength and exhibits a lower rate for radiation graft polymerization than those with respect to said polymer fibers, and a raw material for radiation polymerization obtained from said polymeric base material. Another embodiment is a woven or nonwoven fabric material comprising polymer monofilaments having been subjected to a radiation graft polymerization treatment characterized in that the surface portion of said monofilaments is graft-polymerized by radiation and the central portion thereof remains ungrafted. A still other embodiment is a method for the radiation graft polymerization treatment of a woven or nonwoven fabric base material comprising polymer fibers.
(FR) Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un matériau polymère de base sous forme d'un tissu ou d'un non-tissé de polymérisation avec greffage par rayonnement caractérisé par le fait qu'il est composé de fibres polymères et d'un agent de renforcement polymère présentant une résistance plus élevée et une vitesse de polymérisation avec greffage par rayonnement plus lente par rapport aux fibres polymères, ainsi qu'une matière première de polymérisation par rayonnement obtenue à partir dudit matériau polymère de base. Dans un autre mode de réalisation, elle concerne un matériau tissé ou non-tissé composé de monofilaments de polymère soumis à un traitement de polymérisation avec greffage par rayonnement consistant à polymériser avec greffage par rayonnement la partie surface desdits monofilaments et à en laisser la partie centrale exempte de greffage. Encore un autre mode de réalisation concerne un procédé servant à exécuter un traitement de polymérisation avec greffage par rayonnement d'un matériau de base tissé ou non-tissé composé de fibres polymères.
Designated States: JP, US
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)