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1. (WO1999042636) CVD REACTOR AND USE THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/042636    International Application No.:    PCT/DE1999/000455
Publication Date: 26.08.1999 International Filing Date: 18.02.1999
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Applicants: AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17 D-52072 Aachen (DE) (For All Designated States Except US).
JÜRGENSEN, Holger [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DESCHLER, Marc [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STRAUCH, Gerd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHUMACHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KÄPPELER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: JÜRGENSEN, Holger; (DE).
DESCHLER, Marc; (DE).
STRAUCH, Gerd; (DE).
SCHUMACHER, Markus; (DE).
KÄPPELER, Johannes; (DE)
Agent: MÜNICH, Wilhelm; Kanzlei Dr. Münich & Kollegen Wilhelm-Mayr-Strasse 11 D-80689 München (DE)
Priority Data:
198 06 776.3 18.02.1998 DE
198 13 523.8 26.03.1998 DE
Title (DE) CVD-REAKTOR UND DESSEN VERWENDUNG
(EN) CVD REACTOR AND USE THEREOF
(FR) REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ET SON UTILISATION
Abstract: front page image
(DE)Beschrieben wird ein CVD-Reaktor mit einem Reaktorgehäuse mit einem Deckel; einem in dem Reaktorgehäuse angeordneten geheizten Susceptor (Waferträger), auf dem wenigstens ein Wafer angeordnet werden kann; einem zentralen Fluideinlass, durch den insbesondere temperierte CVD-Medien etc. in den Reaktor eintreten, und einem Fluidauslass, der am Umfang des Reaktorgehäuses angeordnet ist, und durch den die eingelassenen Medien austreten. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass der Fluidauslass in etwa die Form einer Scheibe mit einer Vielzahl von Auslassöffnungen für die CVD-Medien etc. hat, und zwischen Susceptor (Waferträger) und Reaktordeckel derart angeordnet ist, dass der Fluidauslass durch Strahlung von Susceptor (Waferträger) beheizt wird, und sich damit auf eine Temperatur zwischen der Temperatur des Susceptors (Waferträgers) und dem Reaktordeckel einstellt, durch die die CVD-Medien etc. temperiert eintreten.
(EN)The invention relates to a CVD reactor comprising the following: a reactor housing with a lid; a heated susceptor (wafer holder) which is located in the reactor housing and on which at least one wafer can be positioned; a central fluid inlet through which especially tempered CVD media etc., enter the reactor; and a fluid outlet which is positioned on the periphery of the reactor housing and through which the admitted media exit. The invention is characterised in that the fluid outlet is approximately disk-shaped with a number of outlet openings for the CVD media, etc., and is arranged between the susceptor (wafer holder) and the reactor lid in such a way that it is heated by radiation from said susceptor (wafer holder) and is hereby set at a temperature between the temperature of the susceptor (wafer holder) and that of the reactor lid. This ensures that the CVD media are tempered when they enter.
(FR)L'invention concerne un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur comportant une enceinte munie d'un couvercle, un suscepteur (support de tranches) chauffé et disposé dans l'enceinte du réacteur, sur lequel au moins une tranche peut être disposée, une entrée centrale de fluide par laquelle des milieux de dépôt chimique en phase vapeur, etc., notamment tempérés, entrent dans le réacteur, et une sortie de fluide située à la périphérie de l'enceinte du réacteur et par laquelle sortent les milieux introduits. L'invention est caractérisée en ce que la sortie de fluide présente approximativement la forme d'un disque pourvu d'une pluralité d'orifices de sortie pour les milieux de dépôt chimique en phase vapeur, etc., et est disposée entre le suscepteur (support de tranches) et le couvercle du réacteur de telle manière qu'elle est chauffée par le rayonnement du suscepteur (support de tranches), et se règle ainsi à une température comprise entre la température du suscepteur (support de tranches) et du couvercle du réacteur et permettant l'entrée de milieux de dépôt chimique en phase vapeur, etc., tempérés.
Designated States: DE, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)