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1. (WO1999042534) POLISHING COMPOSITION INCLUDING WATER SOLUBLE POLISHING AGENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/042534    International Application No.:    PCT/US1999/003145
Publication Date: 26.08.1999 International Filing Date: 16.02.1999
Chapter 2 Demand Filed:    30.08.1999    
IPC:
C09G 1/04 (2006.01), C09G 1/16 (2006.01)
Applicants: TURTLE WAX, INC. [US/US]; 5655 West 73rd Street Chicago, IL 60638 (US)
Inventors: HEALY, Denis, J.; (US).
KORNHABER, Harvey; (US).
TALWAR, Maharaj; (US)
Agent: ROCHE, Richard, T.; Baker & McKenzie 130 East Randolph Drive Chicago, IL 60601 (US)
Priority Data:
09/025,535 18.02.1998 US
Title (EN) POLISHING COMPOSITION INCLUDING WATER SOLUBLE POLISHING AGENT
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE CONTENANT UN AGENT DE POLISSAGE SOLUBLE DANS L'EAU
Abstract: front page image
(EN)An improved polishing composition is provided that includes an emulsion of oil-based components and water-based components and a water soluble polishing agent. The polishing composition of the present invention is rubbed on a painted surface, hosed off with water and wiped or towel dried. Because of the use of a water soluble polishing agent in the polishing composition, all or substantially all of the polishing agent is washed away with the water. This eliminates the need for a two-step polishing process wherein a polishing composition is applied to a surface and allowed to dry in a first step and the surface is buffed with a dry cloth in a second step. One preferred embodiment of the present invention includes silicones, water, a nonionic or anionic surfactant and a water soluble polishing agent. Optionally, the polishing composition may include a solvent, mineral oil, and a preservative.
(FR)Composition de polissage améliorée contenant une émulsion de constituants à base d'huile et de constituants à base d'eau, ainsi qu'un agent de polissage soluble dans l'eau. On frotte cette composition de polissage sur une surface peinte, on l'enlève à l'eau et on l'essuie ou on la sèche au torchon. Etant donné la présence d'un agent de polissage soluble dans l'eau dans cette composition, cet agent de polissage est enlevé par l'eau, en totalité ou en majeure partie. Ceci rend inutile le procédé de polissage en deux étapes qui consiste à appliquer une composition de polissage sur une surface et à la laisser sécher dans une première étape, puis à passer la surface au chiffon sec dans une deuxième étape. Un mode de réalisation préféré de l'invention est basé sur des silicones, de l'eau, un tensioactif non ionique ou anionique et un agent de polissage soluble dans l'eau. Cette composition de polissage peut éventuellement inclure un solvant, de l'huile minérale et un conservateur.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)