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1. (WO1999042414) MO-SI MULTILAYER COATING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/042414    International Application No.:    PCT/US1999/003410
Publication Date: 26.08.1999 International Filing Date: 17.02.1999
Chapter 2 Demand Filed:    08.09.1999    
IPC:
C03C 17/36 (2006.01), G02B 1/10 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street Oakland, CA 94607-5200 (US)
Inventors: MONTCALM, Claude; (US).
MIRKARIMI, Paul, B.; (US)
Agent: WOOLDRIDGE, John, P.; P.O. Box 808, L-703 Livermore, CA 94550 (US)
Priority Data:
09/027,308 20.02.1998 US
Title (EN) MO-SI MULTILAYER COATING
(FR) REVETEMENT A MULTIPLES COUCHES DE MO-SI
Abstract: front page image
(EN)A high reflectance-low stress Mo-Si multilayer reflective coating particularly useful for the extreme ultraviolet (EUV) wavelength region. While the multilayer reflective coating has particular application for EUV lithography, it has numerous other applications where high reflectance and low stress multilayer coatings are utilized. Multilayer coatings having high near-normal incidence reflectance (R$m(G)65 %) and low residual stress ($m(F)100 MPa) have been produced using thermal and non-thermal approaches. The thermal approach involves heating the multilayer coating to a given temperature for a given time after deposition in order to induce structural changes in the multilayer coating that will have an overall 'relaxation' effect without reducing the reflectancve significantly.
(FR)L'invention concerne un revêtement réflecteur à plusieurs couches de Mo-Si, à faibles contraintes et fort coefficient de réflexion, particulièrement utile pour la zone des longueurs d'onde ultraviolettes extrêmes. Si ce revêtement réflecteur à plusieurs est particulièrement utile pour la lithographie à ultraviolets extrêmes, il peut également être utilisé dans de nombreuses autres applications dans lesquelles des revêtements à plusieurs couches, à faibles contraintes et fort coefficient de réflexion sont utilisés. Des revêtements de ce type, à plusieurs couches présentant un coefficient de réflexion élevé à incidence proche de la normale (R supérieure ou égale à 65%) et de faibles contraintes résiduelles (inférieures ou égales à 100 MPa) ont été produits en suivant des approches thermiques et non thermiques. L'approche thermique consiste à chauffer le revêtement à plusieurs couches jusqu'à une température donnée, pendant un temps donné, après le dépôt pour induire des modifications structurelles dans le revêtement, qui se traduiront par un effet de 'relaxation' sans réduire le coefficient de réflexion de manière significative.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)