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1. (WO1999014791) APPARATUS FOR SPUTTERING IONIZED MATERIAL IN A MEDIUM TO HIGH DENSITY PLASMA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/014791    International Application No.:    PCT/US1998/019295
Publication Date: 25.03.1999 International Filing Date: 15.09.1998
Chapter 2 Demand Filed:    07.04.1999    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: LEET, Michael; (US).
FORSTER, John, C.; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
08/929,965 15.09.1997 US
Title (EN) APPARATUS FOR SPUTTERING IONIZED MATERIAL IN A MEDIUM TO HIGH DENSITY PLASMA
(FR) DISPOSITIF PERMETTANT DE PULVERISER UN MATERIAU IONISE DANS UN PLASMA DE DENSITE MOYENNE A ELEVEE
Abstract: front page image
(EN)An apparatus and method for processing workpieces, which include a chamber having a coil for inductively coupling RF energy through a dielectric window into the chamber to energize a plasma, and a shield positioned between a sputtering target and the dielectric window to reduce or eliminate deposition of sputtered material onto a portion of the dielectric window. In the illustrated embodiment, the window shield is spaced from the dielectric window to define a gap and has at least one opening, which permits RF energy to be coupled through the gap and through the window shield opening to the interior of the chamber. As a consequence, the coil may be positioned exterior to the chamber to simplify construction and operation of the chamber.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé de traitement de pièces. Une chambre comprend une bobine permettant de coupler par induction de l'énergie H.F. avec l'intérieur de la chambre via une fenêtre diélectrique, afin d'exciter un plasma, et un blindage disposé entre une cible de pulvérisation et la fenêtre diélectrique et permettant de réduire ou d'éliminer le dépôt de matériau pulvérisé sur une partie de la fenêtre diélectrique. Dans le mode de réalisation illustré, le blindage de la fenêtre est espacé de la fenêtre diélectrique de manière à ménager un espace, et présente au moins une ouverture permettant à l'énergie H.F. d'être couplée avec l'intérieur de la chambre à travers l'espace et à travers l'ouverture du blindage de la fenêtre. La bobine peut en conséquence être placée à l'extérieur de la chambre ce qui permet de simplifier l'assemblage et l'exploitation de la chambre.
Designated States: JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)