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1. (WO1999014784) VACUUM PLASMA PROCESSOR HAVING COIL WITH ADDED CONDUCTING SEGMENTS TO ITS PERIPHERAL PART
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/014784    International Application No.:    PCT/US1998/019122
Publication Date: 25.03.1999 International Filing Date: 16.09.1998
Chapter 2 Demand Filed:    15.04.1999    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, CA 94538-6470 (US)
Inventors: HOLLAND, John, Patrick; (US).
DEMOS, Alex; (US)
Agent: LOWE, Allan, M.; Lowe Hauptman Gopstein Gilman & Berner LLP Suite 310 1700 Diagonal Road Alexandria, VA 22314 (US)
Priority Data:
08/931,504 16.09.1997 US
Title (EN) VACUUM PLASMA PROCESSOR HAVING COIL WITH ADDED CONDUCTING SEGMENTS TO ITS PERIPHERAL PART
(FR) PROCESSEUR A PLASMA A VIDE COMPORTANT UNE BOBINE EQUIPEE DE SEGMENTS CONDUCTEURS SUPPLEMENTAIRES SUR SA PARTIE PERIPHERIQUE
Abstract: front page image
(EN)A vacuum plasma processor for treating a workpiece with an RF plasma has a plasma excitation coil including a peripheral portion supplying a substantial magnetic flux density to peripheral portions of the plasma. Additional conducting segments spatially adjacent to and electrically connected to a segment of the peripheral portion supply additional magnetic flux having a substantial magnetic flux density to the plasma peripheral portions. The additional conductor segments are in each of four corners of the coil, being connected electrically in parallel or series to coil conductor segments forming the corners. In another embodiment, the coil includes several nested conducting corner segments. In different embodiments, the corner segments are (1) coplanar with the remainder of the coil and (2) closer to the plasma than the remainder of the coil. The coil includes two electrically parallel, spiral-like windings, each with an interior terminal connected to one output terminal of a matching network and an output terminal connected via a capacitor to another output terminal of the matching network. The capacitor values and the lengths of the windings relative to the plasma RF excitation wavelength are such that current flowing in the coil has maximum and minimum standing wave values in the peripheral and interior coil portions, respectively. The coil and workpiece peripheries have similar rectangular dimensions and geometries.
(FR)L'invention concerne un processeur à plasma à vide utile pour traiter une pièce au moyen d'un plasma HF. Le processeur comporte une bobine d'excitation de plasma comprenant une partie périphérique qui fournit une densité de flux sensiblement magnétique à des parties périphériques du plasma. Des segments conducteurs supplémentaires adjacents spatialement et connectés électriquement à un segment de la partie périphérique fournissent un flux magnétique supplémentaire présentant une densité de flux sensiblement magnétique aux parties périphériques de plasma. Les segments conducteurs supplémentaires sont situés dans chacun des quatre coins de la bobine, et sont connectés électriquement en parallèle ou en série aux segments conducteurs de la bobine qui forment les coins. Dans un autre mode de réalisation, la bobine comporte plusieurs segments de coins conducteurs emboîtés. Dans des modes de réalisation différents, les segments de coins sont (1) coplanaires par rapport au reste de la bobine, et (2) plus proches du plasma que le reste de la bobine. La bobine comporte deux enroulements de type spirales parallèles d'un point de vue électrique, chacune étant équipée d'une extrémité intérieure connectée à une extrémité de sortie d'un réseau correspondant, et d'une extrémité de sortie connectée via un condensateur à une autre extrémité de sortie du réseau correspondant. Les valeurs du condensateur et les longueurs des enroulements par rapport à la longueur d'onde d'excitation HF du plasma sont telles que le courant passant dans la bobine présente des valeurs d'onde stationnaire maximum et minimum dans les parties périphérique et intérieure de la bobine, respectivement. Les périphéries de la bobine et de la pièce présentent des dimensions et des géométries rectangulaires similaires.
Designated States: IL, JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)