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1. (WO1999008315) SCANNING EXPOSURE METHOD, SCANNING ALIGNER, METHOD OF MANUFACTURING THE SCANNING ALIGNER, AND SYNCHRONIZATION ERROR ANALYSING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/008315    International Application No.:    PCT/JP1998/003558
Publication Date: 18.02.1999 International Filing Date: 11.08.1998
Chapter 2 Demand Filed:    25.02.1999    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0005 (JP) (AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CU, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GE, GH, GM, GN, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IS, IT, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, NE, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW only).
MAKINOUCHI, Susumu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FURUKAWA, Osamu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MAKINOUCHI, Susumu; (JP).
FURUKAWA, Osamu; (JP)
Agent: NAGAI, Fuyuki; Shoyu-kaikan 3-1, Kasumigaseki 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0013 (JP)
Priority Data:
9/228837 11.08.1997 JP
Title (EN) SCANNING EXPOSURE METHOD, SCANNING ALIGNER, METHOD OF MANUFACTURING THE SCANNING ALIGNER, AND SYNCHRONIZATION ERROR ANALYSING METHOD
(FR) PROCEDE D'EXPOSITION PAR BALAYAGE, GRAVEUR PAR PROJECTION A BALAYAGE, PROCEDE DE PRODUCTION DU GRAVEUR PAR PROJECTION A BALAYAGE ET PROCEDE D'ANALYSE DES ERREURS DE SYNCHRONISATION
Abstract: front page image
(EN)A main control system (18) monitors the positions of a mask (R) and a sensitive substrate (W) while the mask (R) and the substrate (W) are moved relative to each other, calculates the error of synchronization between the mask (R) and the substrate (W) based on the result of monitoring, and, according to the synchronization error, selects at least one of the movement average and the standard deviation of movement so as to analyze the synchronization accuracy of the mask (R) and the substrate (W) during scanning for each factor affecting the result of exposure. Thus, the use of movement average makes it possible to evaluate quantitatively to some extent the effect of the synchronization error on the misalignment of the pattern transferred onto the substrate (W), and the use of the standard deviation of movement makes it possible to evaluate quantitatively to some extent the effect of the synchronization error on the deterioration of the pattern resolution.
(FR)Un système de commande principal (18) contrôle les positions d'un masque (R) et d'un substrat sensible (W) tandis que le masque (R) et le substrat (W) sont déplacés l'un par rapport à l'autre, et calculent l'erreur de synchronisation entre le masque (R) et le substrat (W) sur la base du résultat du contrôle et, selon l'erreur de synchronisation, il sélectionne la moyenne du mouvement et/ou l'écart type du mouvement de manière à analyser la précision de synchronisation du masque (R) et du substrat (W) pendant le balayage pour chaque facteur intervenant sur le résultat d'exposition. Ainsi, l'utilisation d'une moyenne de mouvement permet d'évaluer quantitativement, dans une certaine mesure, l'effet de l'erreur de synchronisation sur le désalignement du motif transféré sur le substrat (W), et l'utilisation de l'écart type de mouvement permet d'évaluer quantitativement, dans une certaine mesure, l'effet de l'erreur de synchronisation sur la détérioration de la résolution du motif.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)