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1. (WO1999006611) METHOD AND APPARATUS FOR CHAMBER CLEANING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/1999/006611 International Application No.: PCT/US1998/015706
Publication Date: 11.02.1999 International Filing Date: 29.07.1998
Chapter 2 Demand Filed: 01.03.1999
IPC:
C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: GARDNER, James, T.[US/US]; US
BLONIGAN, Wendell, T.[US/US]; US
ROBERTSON, Robert, M.[US/US]; US
APPLIED KOMATSU TECHNOLOGY, INC.[JP/JP]; 1-7 ban, 2-chome Nishishinjuku Tokyo, JP
Inventors: GARDNER, James, T.; US
BLONIGAN, Wendell, T.; US
ROBERTSON, Robert, M.; US
Agent: BERNADICOU, Michael, A. ; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025, US
Priority Data:
08/904,65601.08.1997US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CHAMBER CLEANING
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF SERVANT A NETTOYER UNE CHAMBRE
Abstract: front page image
(EN) A method and apparatus for cleaning a processing chamber. Steps of the method include flowing a cleaning gas into the chamber, and flowing an inert gas into the chamber during at least a portion of the same time as the cleaning gas, such that the ratio of inert gas to cleaning gas is in a range of about 1:1 to about 1:4 by volume. The apparatus (130) includes a sensor (63) for measuring total pressure in the interior of the chamber (133). Two cleaning gas supplies (59) may be used: a cleaning gas supply (59) with a first valved inlet providing an entrance to the interior of the chamber for passing cleaning gas to the interior of the chamber, and an inert gas supply (57) with a second valved inlet providing an entrance to the interior of the chamber for passing an inert gas to the interior of the chamber. A governor (136) with an input coupled to the sensor maintains the total pressure within the chamber at a prespecified value. First and second mass flow controllers are coupled to the first and second valved inlets, such that the first and second mass flow controllers are set to control the ratio of the amount of cleaning gas entering the chamber to the amount of inert gas entering the chamber so that this ratio is maintained in a range of about 1:1 to about 1:4.
(FR) Dispositif et procédé servant à nettoyer une chambre de traitement. Ce procédé consiste à introduire un écoulement de gaz de nettoyage vers l'intérieur de la chambre et à introduire un gaz inerte vers l'intérieur de la chambre pendant au moins une partie de la même durée que pour l'écoulement de gaz de nettoyage, de façon à situer le rapport entre le gaz inerte et le gaz de nettoyage dans une plage de 1:1 à 1:4 en volume. Ce dispositif (130) comprend un capteur (63) servant à mesurer la pression totale à l'intérieur de la chambre (133). On peut effectuer deux alimentations en gaz de nettoyage: la première alimentation (59) en gaz de nettoyage étant effectuée par une première entrée vannée constituant une entrée vers l'intérieur de la chambre afin d'y faire pénétrer le gaz de nettoyage et la deuxième alimentation (57) en gaz inerte étant effectuée par une deuxième entrée vannée constituant une entrée vers l'intérieur de la chambre afin d'y faire pénétrer un gaz inerte. Un détendeur (136) comportant une entrée couplée au capteur maintient la pression totale à l'intérieur de la chambre à une valeur prédéterminée. Un première et un deuxième régulateurs de débit-masse sont reliés à la première et à la deuxième entrées vannées, de sorte que ce premier et ce deuxième régulateurs de débit-masse sont réglés afin de réguler le rapport entre la quantité de gaz de nettoyage pénétrant dans la chambre et la quantité de gaz inerte pénétrant dans la chambre, de façon à maintenir ce rapport dans une plage de 1:1 à 1:4.
Designated States: JP, KR
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)