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1. (WO1999005709) EXPOSURE METHOD AND ALIGNER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1999/005709    International Application No.:    PCT/JP1998/003305
Publication Date: 04.02.1999 International Filing Date: 24.07.1998
Chapter 2 Demand Filed:    18.02.1999    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8331 (JP) (AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CU, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GE, GH, GM, GN, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IS, IT, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, NE, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW only).
NISHI, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NISHI, Kenji; (JP)
Agent: OSUGA, Yoshiyuki; 3rd floor Nibancho Building 8-20, Nibancho Chiyoda-ku Tokyo 102-0084 (JP)
Priority Data:
9/198154 24.07.1997 JP
Title (EN) EXPOSURE METHOD AND ALIGNER
(FR) PROCEDE D'EXPOSITION ET ALIGNEUR
Abstract: front page image
(EN)When a mask pattern is transferred by scanning exposure onto a photosensitive wafer by a projection aligner, static image distorsion characteristics in the scanning direction are smoothed over the width of an exposed area and turned to dynamic image distorsioncharacteristics. At least the random component of the dynamic image distorsion characteristics is corrected by placing in the projection optical path an image distorsion correction plate which is prepared by locally polishing the surface of a transparent plate having parallel sides. Considering that other aberrations are also smoothed during the scanning exposure and turned to dynamic aberration characteristics, a correction plate which will minimize other aberrations is manufactured beforehand and mounted in the projection optical path. As a result, aberrations occurring in an illumination optical system in the projection optical system of a projection aligner using ultraviolet illumination light are reduced.
(FR)Lorsqu'un dessin de masques est transféré par exposition par balayage sur une plaquette photosensible, au moyen d'un aligneur de projection, les caractéristiques de déformation de fond d'image dans la direction de balayage sont adoucies sur la largeur d'une zone exposée et transformées en caractéristiques de déformation de premier plan d'image. Au moins le randon des caractéristiques de déformation de premier plan d'image est corrigé par placement sur le chemin optique de projection d'une lame de correction de déformation d'image qu'on prépare en polissant localement la surface d'une lame transparente munie de bords parallèles. Sachant que d'autres aberrations sont également adoucies pendant l'exposition de balayage et transformées en caractéristiques d'aberration dynamique, une lame de correction destinée à réduire au minimum d'autres aberrations sera fabriquée au préalable et montée sur le chemin optique de projection. On réduit ainsi les aberrations qui surviennent dans le système optique d'éclairement placé dans le système optique de projection d'un aligneur de projection utilisant un éclairement aux ultraviolets.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)