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1. (WO1998053639) ELECTRIC OR ELECTRONIC CIRCUIT ELEMENT FREE FROM MICRODISCHARGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/053639    International Application No.:    PCT/FR1998/000944
Publication Date: 26.11.1998 International Filing Date: 12.05.1998
Chapter 2 Demand Filed:    26.11.1998    
IPC:
H04R 3/00 (2006.01)
Applicants: ELECTRICITE DE FRANCE SERVICE NATIONAL [FR/FR]; 2, rue Louis Murat, F-75008 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
JOHANNET, Pierre [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: JOHANNET, Pierre; (FR)
Agent: FRECHEDE, Michel; Cabinet Plasseraud, 84, rue d'Amsterdam, F-75440 Paris Cedex 09 (FR)
Priority Data:
97/06045 16.05.1997 FR
Title (EN) ELECTRIC OR ELECTRONIC CIRCUIT ELEMENT FREE FROM MICRODISCHARGE
(FR) ELEMENT DE CIRCUIT ELECTRIQUE OU ELECTRONIQUE EXEMPT DE PHENOMENE DE MICRO-DECHARGES
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns an electric or electronic circuit element free from electric microdischarge, comprising a sealed chamber (1) provided with external connection terminals (10, 11) and defining an empty space consisting in gas residual pressure. An electric circuit connected internally to connection terminals is placed in the sealed chamber (1), thereby eliminating the electric microdischarges. The invention is applicable to reactive electric circuits encapsulated under reduced gas pressure.
(FR)L'invention concerne un élément de circuit électrique ou électronique exempt de phénomène de micro-décharges électriques. L'élément de circuit électrique ou électronique comprend une enceinte étanche (1) munie de bornes de connexion externes (10, 11) et délimitant un espace vide consistant en une pression résiduelle de gaz. Un circuit électrique connecté en interne aux bornes de connexion est placé dans l'enceinte étanche (1), les phénomènes de micro-décharges électriques étant ainsi supprimés. Application à la réalisation de circuits électriques réactifs encapsulés sous pression réduite de gaz.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, GW, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)