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1. (WO1998053480) MICRODISCHARGE LAMP
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/053480    International Application No.:    PCT/US1998/009915
Publication Date: 26.11.1998 International Filing Date: 15.05.1998
Chapter 2 Demand Filed:    02.12.1998    
IPC:
H01J 61/04 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01J 17/49 (2012.01), H01J 61/72 (2006.01), H01J 9/02 (2006.01)
Applicants: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ILLINOIS [US/US]; 352 Henry Administatrion Building, 506 South Wright Street, Urbana, IL 61801 (US)
Inventors: DETEMPLE, Thomas, A.; (US).
FRAME, James; (US).
WHEELER, David, J.; (US).
EDEN, J., Gary; (US)
Agent: FALLON, Steven, P.; Greer, Burns & Crain, Ltd., Suite 8660, Sears Tower, 233 South Wacker Drive, Chicago, IL 60606 (US)
Priority Data:
08/858,235 19.05.1997 US
Title (EN) MICRODISCHARGE LAMP
(FR) LAMPE A MICRODECHARGE
Abstract: front page image
(EN)A microdischarge lamp (10) formed in a one piece integral substrate (14), preferably a silicon wafer, via micromachining techniques commonly used in integrated circuit manufacture. The lamp (10) includes a micromachined cavity (12) area for enclosing discharge filler (16), such as mercury vapor. The one piece substrate includes one or more semiconductor regions which act as electrodes (14, 20) for the lamp. A light transmissive cap seals the cavity area. Selection of particular aperture to length ratios for the cavity area permits the lamp to be operated either as a positive column or hollow cathode discharge. Hollow cathode discharge has been demonstrated at pressures of up to about 200 Torr. The small aperture of the cavity area, of about 1 to 400 micrometers, enable the electrons in the discharge to be ballistic. In addition, the small dimensions permit discharges based upon resonance radiation, such as the 253 nm line of atomic mercury.
(FR)L'invention a trait à une lampe à microdécharge (10) formée dans un substrat composé d'une seule pièce (14), de préférence une plaquette de silicium, par des techniques de micro-usinage utilisées couramment dans la fabrication des circuits intégrés. Cette lampe (10) comporte une zone évidée micro-usinée (12) et destinée à contenir de la matière de remplissage provoquant la décharge (16) telle que de la vapeur de mercure. Le substrat composé d'une seule pièce comporte une ou plusieurs zones semi-conductrices jouant le rôle des électrodes (14, 20) de la lampe. Un bouchon transmettant la lumière scelle la zone évidée. Le choix de rapports particuliers 'orifice-longueur' de la zone évidée permet le fonctionnement de la lampe soit comme lampe à colonne positive, soit comme lampe à cathode creuse. La décharge en cathode creuse est possible à des pressions pouvant atteindre environ 200 Torr. Le petit orifice ménagé dans la zone évidée, mesurant entre 1 et 400 micromètres, permet aux électrons de la décharge d'être balistiques. En outre, ces petites dimensions permettent des décharges basées sur le rayonnement de la résonance, comme la ligne de 253 nm du mercure atomique.
Designated States: AU, CN, JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)