WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO1998053447) METHOD OF MANUFACTURING A BODY HAVING A STRUCTURE OF LAYERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/053447    International Application No.:    PCT/IB1998/000656
Publication Date: 26.11.1998 International Filing Date: 30.04.1998
IPC:
G11B 5/31 (2006.01), G11B 5/39 (2006.01)
Applicants: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL).
PHILIPS AB [SE/SE]; Kottbygatan 7, Kista, S-164 85 Stockholm (SE) (SE only)
Inventors: KNAPEN, Peter, Simon, Antonius; (NL)
Agent: SCHRIJNEMAEKERS, Hubert, J., M.; Internationaal Octrooibureau B.V., P.O. Box 220, NL-5600 AE Eindhoven (NL)
Priority Data:
97201539.0 23.05.1997 EP
Title (EN) METHOD OF MANUFACTURING A BODY HAVING A STRUCTURE OF LAYERS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN CORPS AYANT UNE STRUCTURE MULTICOUCHE
Abstract: front page image
(EN)Method of manufacturing a multilayer structure, in which method gold is deposited on a basic layer (3, 11) for forming a gold layer (7, 13), whereafter aluminium oxide is deposited on the gold layer for forming an aluminium oxide layer (9, 15). Silicon oxide is deposited on the aluminium oxide layer by means of PE-CVD for forming a silicon oxide layer (11, 13), and the aluminium oxide layer constitutes an adhesive layer between the gold layer and the silicon oxide layer. Together with the aluminium oxide layer, the silicon oxide layer constitutes an insulating and/or protective cladding layer for the gold layer.
(FR)Cette invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une structure multicouche, dans lequel de l'or est déposé sur une couche de base (3, 11) afin de former une couche d'or (7, 13), puis de l'oxyde d'aluminium est déposé sur la couche d'or afin de former une couche d'oxyde d'aluminium (9, 15). De l'oxyde de silicium est déposé sur cette couche d'oxyde d'aluminium par dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma (PE-CVD), afin de former une couche d'oxyde de silicium (11, 13), et la couche d'oxyde d'aluminium constitue une couche adhésive entre la couche d'or et la couche d'oxyde de silicium. Conjointement avec la couche d'oxyde d'aluminium, la couche d'oxyde de silicium forme une couche de revêtement isolant et/ou protecteur pour la couche d'or.
Designated States: JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)