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1. (WO1998052879) SYNTHETIC SILICA GLASS USED WITH UV-RAYS AND METHOD PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/052879    International Application No.:    PCT/EP1998/002965
Publication Date: 26.11.1998 International Filing Date: 20.05.1998
IPC:
C03B 19/14 (2006.01), C03B 23/047 (2006.01), C03B 32/00 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01)
Applicants: HERAEUS QUARZGLAS GMBH [DE/DE]; Quarzstrasse D-63450 Hanau (DE) (For All Designated States Except US).
SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 22-2, Nishi-Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku Tokyo 160-0023 (JP) (For All Designated States Except US).
OHASHI, Norio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KURIYAMA, Michiyo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMAGATA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUNADA, Shigemasa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OHASHI, Norio; (JP).
KURIYAMA, Michiyo; (JP).
YAMAGATA, Shigeru; (JP).
SUNADA, Shigemasa; (JP)
Agent: STAUDT, Armin; Heraeus Quarzglas GmbH Schutzrechte Quarzstrasse D-63450 Hanau (DE)
Priority Data:
9/145938 20.05.1997 JP
9/224450 07.08.1997 JP
Title (EN) SYNTHETIC SILICA GLASS USED WITH UV-RAYS AND METHOD PRODUCING THE SAME
(FR) VERRE DE SILICE SYNTHETIQUE UTILISE AVEC DES RAYONS UV ET PROCEDE DE PRODUCTION DE CE DERNIER
Abstract: front page image
(EN)An object of the present invention is to provide a synthetic silica glass optical material which exhibits excellent transmittance as well as durability for high output power vacuum ultraviolet rays, being emitted from, for example, ArF excimer lasers and Xe2 excimer lamps, and to provide a method for producing the same. A synthetic silica glass optical material for high output power vacuum ultraviolet rays made from ultra high purity synthetic silica glass for use in the wavelength region of from 165 to 195 nm, containing OH groups at a concentration of from 5 to 300 wtppm with a fluctuation width in OH group concentration ($g(D)OH/cm) of 10 wtppm or less, containing hydrogen molecules at a concentration of from 1 x 1017 to 1 x 1019 molecule/cm3 with a fluctuation width in hydrogen molecule concentration ($g(D)H2/cm) of 1 x 1017 molecule/cm3 or lower, and containing chlorine at a concentration of 50 wtppm or lower. Also claimed is a method for producing the same.
(FR)La présente invention a pour objet un matériau optique en verre de silice synthétique qui présente un excellent facteur de transmission ainsi qu'une grande durée de vie pour les rayons ultraviolets sous vide à forte puissance de sortie émis par exemple par des lasers à excimères ArF et des lampes à excimères Xe2. L'invention concerne également un procédé de production de ce matériau. L'invention traite d'un matériau optique en verre de silice synthétique pour des rayons ultraviolets à forte puissance dans la zone de longueur d'onde comprise entre 165 et 195 nm. Ce matériau contient des groupes OH à une concentration comprise entre 5 et 300 ppm en poids, avec une largeur de fluctuation dans la concentration du groupe OH ($g(D)OH/cm) inférieure ou égale à 10 ppm en poids, comprenant des molécules d'hydrogène à une concentration comprise entre 1 x 1017 et 1 x 1019 molécules/cm3 avec une largeur de fluctation dans la concentration de molécules d'hydrogène ($g(D)H2/cm) inférieure ou égale à 1 x 1017 molécules/cm3, et contenant du chlore à une concentration inférieure ou égale à 50 ppm en poids . L'invention traite aussi d'un procédé de production de ce matériau.
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)