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1. (WO1998052213) REFLECTOR COVER FOR A SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/052213    International Application No.:    PCT/US1998/009760
Publication Date: 19.11.1998 International Filing Date: 12.05.1998
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventors: BIERMAN, Benjamin; (US).
BALLANCE, David, S.; (US).
TIETZ, James, V.; (US).
HAAS, Brian; (US).
WILLIAMS, Meredith, J.; (US).
DEATON, Paul; (US)
Agent: APPLIED MATERIALS, INC.; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052 (US)
Priority Data:
08/858,089 16.05.1997 US
Title (EN) REFLECTOR COVER FOR A SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER
(FR) COUVERCLE DE REFLECTEUR POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)In one embodiment, the invention is directed to an apparatus for preventing depositions from occurring on a reflector in a processing chamber, comprising: a cover disposed adjacent to the reflector, the cover optically transparent over a range of wavelengths in which the reflector is reflective; and at least one cover support for maintaining the position of the cover relative to the reflector.
(FR)L'invention concerne dans un mode de réalisation, un appareil de prévention de dépôts sur un réflecteur dans une chambre de traitement, l'appareil comprenant: un couvercle disposé de manière contiguë au réflecteur, le couvercle étant transparent sur le plan optique dans une gamme de longueurs d'ondes dans lesquelles le réflecteur est réfléchissant; et au moins un support de couvercle permettant de maintenir la position du couvercle par rapport au réflecteur.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)