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1. (WO1998052202) MAGNETOSTATIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/1998/052202 International Application No.: PCT/JP1998/001176
Publication Date: 19.11.1998 International Filing Date: 19.03.1998
IPC:
H01F 10/24 (2006.01) ,H03H 2/00 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
F
MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
10
Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
08
characterised by magnetic layers
10
characterised by the composition
18
being compounds
20
Ferrites
24
Garnets
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
2
Networks using elements or techniques not provided for in groups H03H3/-H03H21/117
Applicants:
TDK CORPORATION [JP/JP]; 13-1, Nihonbashi 1-chome Chuo-ku Tokyo 103-0027, JP (AllExceptUS)
KURATA, Hitoyoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
KURATA, Hitoyoshi; JP
Agent:
ISHII, Yoichi ; Tenjin Iyasaka Kosan Building 3F 23-1, Yushima 3-chome Bunkyo-ku Tokyo 113-0034, JP
Priority Data:
9/14089115.05.1997JP
Title (EN) MAGNETOSTATIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) DISPOSITIF A ONDES MAGNETOSTATIQUES ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abstract:
(EN) At the time of patterning a magnetic garnet film formed on the surface of a nonmagnetic garnet substrate, a magnetic garnet film, an intermediate layer, and a resist layer are successively formed on the surface of the substrate in this order from the substrate side, and the garnet film, the intermediate layer, and the resist layer are etched with a hot phosphoric acid solution after the intermediate and the resist layers are shaped in an island-like form. When the intermediate layer is constituted of a material which is more soluble in the hot phosphoric acid solution than the resist layer, the side faces of the magnetic garnet film become gentle slopes after etching and a conductive pattern can be formed continuously over the surfaces of the nonmagnetic garnet substrate and magnetic garnet film. When a protective layer is formed on the rear surface of the substrate, in addition, the angle of a magnetic field applied to the surface of the magnetic garnet film can be controlled accurately.
(FR) Selon l'invention, lors de la formation des motifs sur un film de grenat magnétique formé sur la surface d'un substrat de grenat non magnétique, un film de grenat magnétique, une couche intermédiaire et une couche de résist sont formées successivement, dans cet ordre, sur la surface du substrat, à partir du côté du substrat, et le film de grenat, la couche intermédiaire et la couche de résist sont attaquées avec une solution d'acide phosphorique chaude après que l'on ait donné à la couche intermédiaire et à la couche de résist une forme similaire à une île. Lorsque la couche intermédiaire est constituée d'un matériau qui est plus soluble dans la solution d'acide phosphorique chaude que la couche de résist, les faces latérales du film de grenat magnétique présentent une faible pente après l'attaque et un motif conducteur peut être formé en continu sur les surfaces du substrat de grenat non magnétique et du film de grenat magnétique. Lorsque la couche protectrice est formée sur la face arrière du substrat, il est possible, en outre, d'obtenir un angle précis du champ magnétique appliqué à la surface du film de grenat magnétique.
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Designated States: CN, JP, US
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
US6091313JP3137659CN1223006