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1. (WO1998051844) CO-ROTATING EDGE RING EXTENSION FOR USE IN A SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/1998/051844 International Application No.: PCT/US1998/010143
Publication Date: 19.11.1998 International Filing Date: 12.05.1998
IPC:
C23C 16/44 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01) ,C23C 16/48 (2006.01) ,C30B 25/12 (2006.01) ,C30B 25/14 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95052, US
Inventors: BIERMAN, Benjamin; US
WILLIAMS, Meredith, J.; US
BALLANCE, David, S.; US
HAAS, Brian; US
DEATON, Paul; US
TIETZ, James, V.; US
Agent: GOREN, David, J.; Applied Materials, Inc. P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052, US
Priority Data:
08/880,19416.05.1997US
Title (EN) CO-ROTATING EDGE RING EXTENSION FOR USE IN A SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER
(FR) PROLONGEMENT CO-ROTATIF DE TYPE ANNEAU DE BORDURE DESTINE A UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN) An apparatus to isolate a rotating frame in a processing chamber, comprising: a support cylinder rotatably extending from the rotating frame; and a co-rotating edge ring extension extending from the support cylinder to at least one of substantially thermally, optically and mechanically isolate the region above the co-rotating edge ring extension from the region below the co-rotating edge ring extension.
(FR) La présente invention concerne un appareil destiné à isoler une structure rotative dans une chambre de traitement, comprenant un cylindre de support faisant saillie, de manière à pouvoir tourner, à partir de la structure rotative; et un prolongement co-rotatif de type anneau de bordure faisant saillie à partir du cylindre de support de façon à isoler, au moins de manière sensiblement mécanique et/ou optique et/ou thermique, la région située au-dessus du prolongement co-rotatif de type anneau de bordure de la région située en-dessous du prolongement co-rotatif de type anneau de bordure.
Designated States: JP, KR
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)