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1. (WO1998051836) APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING EMISSION PARAMETERS ATTENDING VAPORIZED MATERIALS IN A HV ENVIRONMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/1998/051836 International Application No.: PCT/US1998/009616
Publication Date: 19.11.1998 International Filing Date: 13.05.1998
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/54 (2006.01)
Applicants: ULTRATHERM, INC.[US/US]; 825 Paint Rock Ferry Road Kingston, TN 37763, US
Inventors: McKEE, Rodney, Allen; US
WALKER, Frederick, Joseph; US
Agent: COHEN, Herbert ; Blank Rome Comisky & McCauley LLP Wigman, Cohen, Leitner & Myers IP Group Suite 1000 900 17th Street, N.W. Washington, DC 20006, US
Priority Data:
08/855,19113.05.1997US
Title (EN) APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING EMISSION PARAMETERS ATTENDING VAPORIZED MATERIALS IN A HV ENVIRONMENT
(FR) APPAREIL, SYSTEME ET PROCEDE PERMETTANT DE REGLER LES PARAMETRES D'EMISSION DE MATERIAUX VAPORISES DANS UN ENVIRONNEMENT SOUS VIDE POUSSE
Abstract: front page image
(EN) An apparatus (36), system (20) and method for controlling parameters attending the emission of a vaporized material from a source (46) in a HV environment (22) utilize at least one shutter (60 or 62) which is rotatably mounted over an exit opening (35) through which vaporized material must exit the source. The shutter has a closure portion (66) and is mounted adjacent the exit opening associated with the source for rotation about an axis so that by rotating the shutter about the rotation axis, the closure portion repeatedly covers and uncovers the exit opening in an intermittent fashion. By using a pair of superposed shutters (60 and 62) whose closure portions can be positionally altered with respect to one another, the intervals during which the exit opening is uncovered by the closure portions throughout each revolution of the shutters can be adjusted. In addition, the accuracy of control of the emission parameters can be enhanced by monitoring the emission of the vaporized material from the source and altering appropriate conditions, such as the speed of shutter rotation, in response to the monitored characteristics.
(FR) La présente invention concerne un appareil (36), un système (20) et un procédé permettant de régler les paramètres régissant l'émission d'un matériau vaporisé depuis une source (46) dans un environnement sous vide poussé (22), lequel appareil comprend au moins un volet d'obturation (60 ou 62) monté rotatif par-dessus une ouverture de sortie (35) à travers laquelle le matériau vaporisé doit quitter la source. Ledit volet d'obturation, qui comprend une partie de fermeture (66), est monté rotatif autour d'un axe et adjacent à l'ouverture de sortie associée à la source de manière qu'en faisant tourner le volet d'obturation autour de l'axe de rotation, la partie de fermeture recouvre et met à découvert par intermittence l'ouverture de sortie de manière répétée. En utilisant deux volets d'obturation (60 et 62) superposés dont les parties de fermeture peuvent adopter des positions modifiables l'une par rapport à l'autre, on peut régler les intervalles pendant lesquels l'ouverture de sortie est mise à découvert par les parties de fermeture au cours de chaque révolution des volets d'obturation. En outre, on peut améliorer la précision du réglage des paramètres d'émission en surveillant l'émission du matériau vaporisé depuis la source et en modifiant, en réponse aux caractéristiques détectées, des conditions appropriées telles que la vitesse de rotation des volets d'obturation.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, GW, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)