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1. (WO1998049772) METHOD OF MAKING SURFACE WAVE DEVICES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/1998/049772 International Application No.: PCT/CA1997/000510
Publication Date: 05.11.1998 International Filing Date: 16.07.1997
Chapter 2 Demand Filed: 24.11.1998
IPC:
H03H 3/08 (2006.01)
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
3
Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
007
for the manufacture of electromechanical resonators or networks
08
for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
Applicants:
NORTHERN TELECOM LIMITED [CA/CA]; World Trade Center of Montreal 8th floor 380 St. Antoine Street West Montreal, Quebec H2Y 3Y4, CA
Inventors:
SENIUK, David, R.; CA
DAI, Ji-Dong; CA
Agent:
HALEY, R., John; Northern Telecom Limited Patent Dept. Station "C" P.O. Box 3511 Ottawa, Ontario K1Y 4H7, CA
Priority Data:
08/847,52824.04.1997US
Title (EN) METHOD OF MAKING SURFACE WAVE DEVICES
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS A ONDES ACOUSTIQUES DE SURFACE
Abstract:
(EN) A surface wave device is made by forming conductors on a surface of a piezoelectric material in a conductor pattern defined by exposing photoresist via a reticle. The conductor pattern is provided on the reticle in two parts each defining a set of substantially alternate fingers of the pattern, and the photoresist is exposed by two overlaid exposures (12a, 12b) each via a respective one of the two parts of the conductor pattern. Exposed photoresist can optionally be developed between the two exposures, and conductors can optionally be formed on the surface between the two exposures. The method reduces diffraction limits, permitting manufacture of surface wave devices with sub-micron linewidths for filtering at increased frequencies.
(FR) L'invention concerne un dispositif à ondes acoustiques de surface qui est fabriqué grâce à la formation de conducteurs sur une surface d'une matière piézo-électrique située dans un réseau de conducteurs défini par l'exposition du photorésist, opération réalisée par l'intermédiaire d'un réticule. Le réseau de conducteurs se situe sur le photorésist, en deux parties définissant chacune un jeu de dents du réseau sensiblement alternées. Le photorésist est exposé par deux expositions successives (12a, 12b) concernant chacune l'une des deux parties du réseau de conducteurs. Le photorésist exposé peut éventuellement être développé entre les deux expositions, et les conducteurs peuvent éventuellement être formés sur la surface entre les deux expositions. Ce procédé réduit les limites de diffraction, ce qui permet la fabrication de dispositifs à ondes acoustiques de surface présentant des largeurs spectrales inférieures au micron et ce, dans le but de réaliser un filtrage à des fréquences accrues.
Designated States: JP
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
EP0985267JP2000510611