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1. (WO1998049709) PATTERN-WRITING MACHINE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/1998/049709 International Application No.: PCT/EP1998/002296
Publication Date: 05.11.1998 International Filing Date: 17.04.1998
IPC:
H01J 37/20 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
20
Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Applicants:
LEICA LITHOGRAPHY SYSTEMS LTD. [GB/GB]; Clifton Road Cambridge CB1 3QH, GB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, KR, LU, MC, NL, PT, SE)
GEORGE, David, Sydney [GB/GB]; GB (UsOnly)
STURROCK, John, Monro [GB/GB]; GB (UsOnly)
HUGHES, Barrie, James [GB/GB]; GB (UsOnly)
Inventors:
GEORGE, David, Sydney; GB
STURROCK, John, Monro; GB
HUGHES, Barrie, James; GB
Agent:
STAMER, Harald; Leica Microsystems Holdings GmbH Corporate Patents & Trademarks Dept. P.O. Box 20 20 D-35530 Wetzlar, DE
Priority Data:
9708459.425.04.1997GB
Title (EN) PATTERN-WRITING MACHINE
(FR) MACHINE A ECRIRE LES MOTIFS
Abstract:
(EN) A pattern-writing machine comprises an electron beam column (11) for generating a deflectable electron beam, a displaceable stage (10) for supporting a substrate (13) to be scanned by the beam for writing a pattern on the substrate, and a displacing system for displacing the stage (10) and thereby the substrate (13) relative to the beam. The displacing system comprises three pairs of struts (15, 16, 17), which support the stage (11) and are individually variable in length, and drive means for varying the strut lengths to move the stage along each of three mutually orthogonal axes (X, Y, Z) and to pivot the stage about each of the three axes. The drive means can take the form of separately operable drives respectively associated with the struts and controlled by measuring systems detecting stage horizontal position, vertical position and attitude.
(FR) L'invention concerne une machine à écrire les motifs. Cette machine comprend une colonne de faisceau électronique (11) pour générer un faisceau électronique pouvant être défléchi, une platine mobile (10) pour supporter un substrat (13) devant être balayé par le faisceau pour écrire un motif sur ce dernier ainsi qu'un système de déplacement pour déplacer cette platine (10) et ce substrat (13) par rapport au faisceau. Le système de déplacement comprend trois paires d'éléments de renfort (15, 16, 17) qui supportent la platine (11) et dont il est possible de faire varier la longueur. Ce système comprend également des moyens de commande pour faire varier la longueur des éléments de renfort et déplacer la platine le long de chacun de ces trois axes mutuellement perpendiculaires (X, Y, Z) et pivoter la platine autour de chacun de ces trois axes. Les moyens de commande peuvent avoir la forme d'éléments de commande pouvant être séparément actionnés et associés aux éléments de support, et commandés par des systèmes de mesure détectant la position horizontale, la position verticale et l'orientation de la platine.
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Designated States: JP, KR, US
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)