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1. (WO1998030731) METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING DEPOSITION OF MATERIAL IN THE EXHAUST PIPE OF A REACTION FURNACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/030731    International Application No.:    PCT/US1998/000162
Publication Date: 16.07.1998 International Filing Date: 08.01.1998
Chapter 2 Demand Filed:    03.08.1998    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: MKS INSTRUMENTS, INC. [US/US]; Six Shattuck Road, Andover, MA 01810-2449 (US)
Inventors: GU, Youfan; (US)
Agent: ALLISON, Scott, B.; Chrisman, Bynum & Johnson, P.C., 1900 Fifteenth Street, Boulder, CO 80302 (US)
Priority Data:
08/782,785 13.01.1997 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING DEPOSITION OF MATERIAL IN THE EXHAUST PIPE OF A REACTION FURNACE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR DIMINUER LE DEPOT DE MATIERE DANS LE CONDUIT D'EVACUATION D'UN FOUR DE REACTION
Abstract: front page image
(EN)An apparatus for preventing the deposition and build-up of chains of polymerized TEOS molecules in the pipes downstream from a reaction furnace includes an annular nozzle assembly (20) positioned inside the pipes (52, 58) such that a plenum is formed between the annular nozzle assembly and the pipes and such that the annular nozzle assembly forms a hollow tubular conduit for conducting effluent from the reaction furnace (21). The annular nozzle assembly preferably includes three hollow and generally cylindrical sections, an upstream collar (22), a downstream spacer ring (24) and a middle section(s) (26) positioned between the upstream collar and the downstream spacer ring. The annular nozzle assembly forms a gas boundary layer or moving virtual wall on its inner surfaces (85, 94, 96, 108) that prevents TEOS gas molecules and water vapor molecules from absorbing or residing on the inner surfaces of the annular nozzle assembly.
(FR)L'invention concerne un appareil pouvant empêcher le dépôt et la formation de chaînes de molécules polymérisées de tétraéthoxysilane (TEOS) dans les conduits aval d'un four de réaction. L'appareil comprend un ensemble tuyère annulaire (20) placé à l'intérieur des conduits (52, 58) de manière à former une chambre de répartition entre l'ensemble tuyère annulaire et les conduits, et de sorte que l'ensemble tuyère annulaire forme un conduit tubulaire creux pour acheminer les effluents émanant du four de réaction (21). L'ensemble tuyère annulaire comprend, de préférence, trois sections creuses et généralement cylindriques, une collerette amont (22), une rondelle d'espacement aval (24), et une (ou des) section(s) centrale(s) placée(s) entre la collerette amont et la rondelle d'espacement aval. L'ensemble tuyère annulaire forme sur ses faces internes (85, 94, 96, 108) une couche limite de gaz ou un mur virtuel mouvant qui empêche les molécules de gaz TEOS et les molécules de vapeur d'eau d'être absorbées par ou de se fixer sur les faces internes de l'ensemble tuyère annulaire.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)