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1. (WO1998029476) PROCESS FOR THE PREPARATION OF POLYSILANES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/029476    International Application No.:    PCT/JP1997/004893
Publication Date: 09.07.1998 International Filing Date: 26.12.1997
Chapter 2 Demand Filed:    27.04.1998    
IPC:
C08G 77/60 (2006.01)
Applicants: OSAKA GAS COMPANY LIMITED [JP/JP]; 1-2, Hiranomachi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541 (JP) (For All Designated States Except US).
NISHIDA, Ryoichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWASAKI, Shinichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MURASE, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NISHIDA, Ryoichi; (JP).
KAWASAKI, Shinichi; (JP).
MURASE, Hiroaki; (JP)
Agent: SAEGUSA, Eiji; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Dosho-machi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541 (JP)
Priority Data:
8/350461 27.12.1996 JP
Title (EN) PROCESS FOR THE PREPARATION OF POLYSILANES
(FR) PROCEDE DE PREPARATION DE POLYSILANES
Abstract: front page image
(EN)A process for the preparation of polysilanes, characterized by treating a dihalosilane represented by general formula (1), wherein m is 1 to 3 and R is hydrogen, alkyl, aryl, alkoxy, amino or silyl, with two R's (when m is 1), four R's (when m is 2), or six R's (when m is 3) being the same or different from each other; and X is halogeno with Mg or a Mg-base alloy in an aprotic solvent in the presence of a Li salt and a metal halide to form a polysilane represented by general formula (2) wherein R is as defined above; and n is 2 to 1000.
(FR)L'invention concerne un procédé de préparation de polysilanes, se caractérisant en ce que l'on traite un dihalosilane représenté par la formule générale (1), (dans laquelle m représente un nombre compris entre 1 et 3, R représente un hydrogène, un alkyle, un aryle, un alcoxy, amino ou un silyle, cette formule comportant deux R (lorsque m représente 1), quatre R (lorsque m représente 2), ou six R (lorsque m représente 3) identiques ou différents l'un de l'autre; et X représente un halogéno), avec un alliage de Mg ou renfermant du Mg dans un solvant aprotique en présence d'un sel de Li et d'un halogénure de métal, en vue de former un polysilane représenté par la formule générale (2) (dans laquelle R est tel que défini plus haut, et n représente un nombre compris entre 2 et 1000).
Designated States: CN, JP, KR, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)