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1. (WO1998029181) EFFLUENT GAS STREAM TREATMENT SYSTEM FOR OXIDATION TREATMENT OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EFFLUENT GASES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/029181    International Application No.:    PCT/US1997/023741
Publication Date: 09.07.1998 International Filing Date: 31.12.1997
Chapter 2 Demand Filed:    24.07.1998    
IPC:
B01D 53/14 (2006.01), B01D 53/68 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: ATMI ECOSYS CORPORATION [US/US]; 617 River Oaks Parkway, San Jose, CA 93134-1907 (US)
Inventors: HOLST, Mark, R.; (US).
CARPENTER, Kent; (US).
LANE, Scott; (US).
ARYA, Prakash, V.; (US).
BALLIEW, Patrick; (US).
SWEENEY, Joseph, D.; (US)
Agent: HULTQUIST, Steven, J.; Intellectual Property/Technology Law, P.O. Box 14329, Research Triangle Park, NC 27709 (US)
Priority Data:
775,838 31.12.1996 US
778,386 31.12.1996 US
778,396 31.12.1996 US
857,448 16.05.1997 US
870,705 06.06.1997 US
Title (EN) EFFLUENT GAS STREAM TREATMENT SYSTEM FOR OXIDATION TREATMENT OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EFFLUENT GASES
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT D'UN FLUX DE GAZ D'EFFLUENT PERMETTANT UN TRAITEMENT D'OXYDATION DES GAZ D'EFFLUENTS PROVENANT DE LA FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)An effluent gas stream treatment system (903) for treatment of gaseous effluents such as waste gases from semiconductor manufacturing operations (901). The effluent gas stream treatment system comprises a pre-oxidation treatment unit (905), which may for example comprise a scrubber, an oxidation unit (913) such an electrothermal oxidizer, and a post-oxidation treatment unit (917), such as a wet or dry scrubber. The effluent gas stream treatment system of the invention may utilize an integrated oxidizer (852), quench (862) and wet scrubber assembly (870), for abatement of hazardous or otherwise undesired components from the effluent gas stream. Gas or liquid shrouding of gas streams in the treatment system may be provided by high efficiency inlet structures (1060, 1110).
(FR)La présente invention concerne un système (903) de traitement d'un flux de gaz d'effluent permettant de traiter des effluents gazeux tels des gaz de combustion provenant d'opérations de fabrication de semi-conducteurs. Le système de traitement d'un flux de gaz d'effluent est constitué d'une unité (905) de traitement de pré-oxydation pouvant comprendre, par exemple, un épurateur, une unité (913) d'oxydation telle qu'un agent oxydant électrothermique et une unité (917) de traitement de post-oxydation telle qu'un épurateur par voie à sèche ou par voie humide. Le système de traitement d'un flux de gaz d'effluent de l'invention peut utiliser un oxydant (852) intégré, un refroidisseur, (862), un ensemble (870) épurateur par voie humide de manière à réduire les composants hasardeux ou non désirés provenant du gaz d'effluent. La mise sous cloche gazeuse ou liquide du flux de gaz, dans le système de traitement, peut être obtenue par des structures (1060, 1110) d'entrée hautement efficaces.
Designated States: CN, JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)