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1. (WO1998016798) OPTICAL PROFILOMETRY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/016798    International Application No.:    PCT/US1997/018264
Publication Date: 23.04.1998 International Filing Date: 09.10.1997
Chapter 2 Demand Filed:    14.05.1998    
IPC:
G01B 9/04 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01)
Applicants: LUCID TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 235 Middle Road, Henrietta, NY 14467 (US)
Inventors: ZAVISLAN, James, M.; (US)
Agent: LUKACHER, Martin; Harris Beach & Wilcox, LLP, 130 East Main Street, Rochester, NY 14604-1687 (US)
Priority Data:
60/028,808 17.10.1996 US
08/893,329 16.07.1997 US
Title (EN) OPTICAL PROFILOMETRY
(FR) PROFILOMETRIE OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN)A scanning reflection profilometry system (10) utilizes an objective lens (34) which focuses a beam at the surface under test (SUT) and measures the profile of the surface (its height variations) in accordance with the amount of defocus of the reflected beam. Surface profile distortion which is focus dependent is reduced through the use of a transparent mask (38) over the aperture of the lens (34) in the path of the beam which is incident on and reflected from the surface under test (SUT) and which covers a portion but not all of the aperture. A photodetector (36) upon which the reflected beam is incident provides output signals representing the change in profile. The system has height sensitivity characteristic of a small spot size on the surface without signal distortion attributable to the diffraction anomalies associated with small spot sizes. A microprofilometer head (24) having the objective lens (34) and other optics (48) is mounted on flexures and driven to execute reciprocal movement so as to scan the surface under test (SUT).
(FR)Un système de relevé profilométrique par réflexion (10) utilise un objectif (34) qui focalise un faisceau sur la surface à tester (SUT) et mesure le profil de ladite surface (ses variations avec la hauteur) en rapport avec la valeur de défocalisation du faisceau réfléchi. La distorsion du profil de surface tributaire de la focalisation est réduite par la mise en place d'un masque transparent (38) au-dessus de l'ouverture de l'objectif (34) dans la trajectoire du faisceau qui est incident sur la surface à tester (SUT) et réfléchi par ladite surface, et recouvre non pas toute, mais une partie de l'ouverture. Un photodétecteur (36), sur lequel le faisceau réfléchi est incident, émet des signaux de sortie correspondant au changement de profil. Le système a une caractéristique de sensibilité à la hauteur de la taille d'un petit diamètre du spot sans distortion du signal attribuable aux anomalies de diffraction associées aux petits diamètres du spot. Une tête de microprofilomètre (24) munie d'un objectif (34) et d'autres instruments optiques (48) est monté sur des flexures et entraînée pour exécuter un mouvement alternatif lui permettant de balayer la surface à tester (SUT).
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)