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1. (WO1998001596) PRODUCTION OF NANOMETER PARTICLES BY DIRECTED VAPOR DEPOSITION OF ELECTRON BEAM EVAPORANT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/001596    International Application No.:    PCT/US1997/011185
Publication Date: 15.01.1998 International Filing Date: 08.07.1997
Chapter 2 Demand Filed:    09.02.1998    
IPC:
B22F 9/12 (2006.01), C23C 14/00 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/30 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION [US/US]; Suite 1-110, The Towers Office Building, 1224 West Main Street, Charlottesville, VA 22903 (US)
Inventors: WADLEY, Haydn, N., G.; (US).
GROVES, James, F.; (US)
Agent: OBLON, Norman, F.; Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C., 4th floor, Crystal Square Five, 1755 Jefferson Davis Highway, Arlington, VA 22202 (US)
Priority Data:
08/679,435 08.07.1996 US
Title (EN) PRODUCTION OF NANOMETER PARTICLES BY DIRECTED VAPOR DEPOSITION OF ELECTRON BEAM EVAPORANT
(FR) PRODUCTION DE PARTICULES NANOMETRIQUES PAR DEPOT ORIENTE EN PHASE VAPEUR D'UN EVAPORANT DE FAISCEAU ELECTRONIQUE
Abstract: front page image
(EN)A process and apparatus for vapor depositing an evaporant onto a substrate (90) is provided which involves: presenting the substrate to a deposition chamber (100), wherein the deposition chamber has an operating pressure of from 0.001 TORR to atmospheric pressure and has coupled thereto a carrier gas stream generator (70) and an electron beam gun (30) capable of providing an electron beam at the operating pressure and contains an evaporant source (80); impinging the evaporant source with the electron beam to generate the evaporant; entraining the evaporant in the carrier gas stream; and coating the substrate with the carrier gas stream which contains the entrained evaporant.
(FR)Procédé et appareil de dépôt en phase vapeur d'un évaporant sur un substrat (90). Le procédé consiste à introduire le substrat dans une chambre de dépôt (100) dans laquelle la pression de travail est comprise entre 0,001 torr et la pression barométrique, un générateur (70) de flux gazeux véhicule et un canon électronique (30) apte à émettre un faisceau électronique sous la pression de travail étant associés à ladite chambre, laquelle renferme une source d'évaporant (80); à diriger le faisceau électronique sur la source d'évaporant afin de créer l'évaporant; à provoquer l'entraînement de l'évaporant dans le flux gazeux véhicule; et à former un revêtement sur le substrat à l'aide du flux gazeux véhicule contenant l'évaporant entraîné.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)