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1. (WO1998000432) PLATINUM SOURCE COMPOSITIONS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF PLATINUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1998/000432    International Application No.:    PCT/US1997/012762
Publication Date: 08.01.1998 International Filing Date: 27.06.1997
Chapter 2 Demand Filed:    15.01.1998    
IPC:
C07C 49/92 (2006.01), C07F 17/02 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01)
Applicants: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. [US/US]; 7 Commerce Drive, Danbury, CT 06810 (US)
Inventors: BAUM, Thomas, H.; (US).
KIRLIN, Peter, S.; (US).
POMBRIK, Sofia; (US)
Agent: HULTQUIST, Steven, J.; Intellectual Property/Technology Law, P.O. Box 14329, Research Triangle Park, NC 27709 (US)
Priority Data:
673,372 28.06.1996 US
Title (EN) PLATINUM SOURCE COMPOSITIONS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF PLATINUM
(FR) COMPOSITIONS DE SOURCE DE PLATINE POUR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE PLATINE
Abstract: front page image
(EN)A platinum source reagent liquid solution, comprising: (i) at least one platinum source compound selected from the group consisting of compunds of the formulae: (A) RC¿p?Pt(IV)R'¿3? compounds, of formula (I), wherein R is selected from the group consisting of hydrogen, methyl, ethyl, i-propyl, n-propyl, n-butyl, i-butyl, t-butyl, trimethylsilyl and trimethylsilyl methyl; and each R' is idependently selected from the group consisting of methyl, ethyl, i-propyl, n-propyl, n-butyl, i-butyl, t-butyl, trimethylsilyl and trimethylsilyl methyl; and (B) Pt($g(b)-diketonates)¿2? of formula (II), wherein each R' is independently selected from the group consisting of methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, t-butyl, trifluoromethyl, perfluoroethyl, and perfluoro-n-propyl, and (ii) a solvent medium therefor. The platinum source reagent liquid solutions of the invention are readily employed in a chemical vapor deposition process system including a liquid delivery apparatus for volatilizing the source reagent liquid solution and transporting the resulting vapor to the chemical vapor deposition reactor for deposition of platinum on a substrate mounted in the CVD reactor.
(FR)L'invention concerne une solution liquide de réactif source de platine. Cette solution comprend: (i) au moins un composé source de platine sélectionné dans le groupe se composant de composés ayant les formule suivantes: (A) composés RC¿p?P¿t?(IV)R'¿3? présentant la formule (I), où R est sélectionné dans le groupe se composant d'hydrogène, méthyle, éthyle, i-propyle, n-propyle, n-butyle, i-butyle, t-butyle, triméthylsilyle et triméthylsilyle méthyle; et chaque R' est indépendamment sélectionné dans le groupe se composant de méthyle, éthyle, i-propyle, n-propyle, n-butyle, i-butyle, t-butyle, triméthylsilyle et triméthylsilyle méthyle; et (B) Pt($g(b)-dicétonates)¿2? selon la formule (II), où R' est indépendamment sélectionné dans le groupe se composant de méthyle, éthyle, n-propyle, i-propyle, n-butyle, i-butyle, t-butyle, trifluorométhyle, perfluoroéthyle et perfluoro-n-propyle; et (ii) un milieu solvant pour ces derniers. Les solutions liquides de réactif source de platine selon l'invention sont rapidement utilisées dans un procédé de dépôt chimique en phase vapeur comprenant un appareil d'administration de liquide pour volatiliser la solution liquide de réactif source et transporter la vapeur obtenue dans le réacteur de dépôt chimique en phase vapeur pour assurer le dépôt du platine sur un substrat fixé dans le réacteur.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)