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1. (WO1997037801) SINGLE PHASE TUNGSTEN-TITANIUM SPUTTER TARGETS AND METHOD OF PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/037801    International Application No.:    PCT/IB1997/000519
Publication Date: 16.10.1997 International Filing Date: 21.03.1997
Chapter 2 Demand Filed:    06.11.1997    
IPC:
C22C 1/04 (2006.01), C22C 27/04 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: SONY CORPORATION [JP/JP]; 7-35, Katashinagawa 6-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 141 (JP).
MATERIALS RESEARCH CORPORATION [US/US]; 560 Route 303, Orangeburg, NY 10962 (US)
Inventors: LO, Chi-Fung; (US)
Agent: JORDAN, Joseph, R.; Wood, Herron & Evans, L.L.P., 2700 Carew Tower, Cincinnati, OH 45202 (US)
Priority Data:
08/630,155 10.04.1996 US
Title (EN) SINGLE PHASE TUNGSTEN-TITANIUM SPUTTER TARGETS AND METHOD OF PRODUCING SAME
(FR) CIBLES MONOPHASE TUNGSTENE-TITANE POUR PULVERISATION CATHODIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)A single phase W-Ti sputter target and a method of manufacturing the target are disclosed. The target is produced by mixing powders of tungsten and titanium and subjecting the mixed powders to a pressing operation for a time, temperature and pressure sufficient to achieve a mutual solid solution of W and Ti, forming single $g(b)(Ti,W) phase. The single phase sputtering target emits much less particulate during sputtering than conventional multiphase W-Ti targets of comparable density and composition.
(FR)La présente invention concerne une cible monophase tungstène-titane pour pulvérisation cathodique et un procédé de fabrication de la cible. On produit cette cible en mélangeant des poudres de tungstène et de titane et en faisant ensuite subire à ce mélange de poudres une opération de compression dans des conditions de durée, de température et de pression suffisantes pour réaliser une solution solide entre le tungstène et le titane, constituant une seule phase $g(b)(Ti,W). Cette cible monophase pour pulvérisation cathodique produit, pendant la pulvérisation cathodique, une émission particulaire moindre que les cibles conventionnelles multiphase tungstène-titane de densités et compositions comparables.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, KE, LS, MW, SD, SZ, UG)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)