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1. (WO1997037518) METHODS AND APPARATUSES FOR CONTROLLING PHASE DIFFERENCE IN PLASMA PROCESSING SYSTEMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/037518    International Application No.:    PCT/US1997/004271
Publication Date: 09.10.1997 International Filing Date: 19.03.1997
Chapter 2 Demand Filed:    20.10.1997    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US)
Inventors: DIBLE, Robert, D.; (US).
BRADLEY, Stephen, G.; (US).
JAFARIAN-TEHRANI, Seyed, Jafar; (US)
Agent: NGUYEN, Joseph, A.; Hickman Beyer & Weaver, P.O. Box 61059, Palo Alto, CA 94306 (US)
Priority Data:
08/642,172 29.03.1996 US
Title (EN) METHODS AND APPARATUSES FOR CONTROLLING PHASE DIFFERENCE IN PLASMA PROCESSING SYSTEMS
(FR) PROCEDES ET DISPOSITIFS DE COMMANDE DE LA DIFFERENCE DE PHASE DANS LES SYSTEMES DE TRAITEMENT DE PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A method in a plasma processing system for modifying a phase difference between a first radio frequency (RF) signal and a second RF signal. The first RF signal is supplied by a first RF power source to a first electrode and the second RF signal is supplied by a second RF power source to a second electrode of a plasma processing system. The second RF power source is coupled to the first RF power source as a slave RF power source in a master-and-slave configuration. The method includes the step of ascertaining a phase difference between a phase of the first RF signal and a phase of the second RF signal. The method further includes the step of comparing the phase difference with a phase control set point signal to output a control signal to the second RF power source, whereby the second RF power source, responsive to the control signal, modifies the phase of the second RF signal to cause the phase difference to approximate a phase difference value represented by the phase control set point signal.
(FR)Cette invention concerne un procédé utilisé dans un système de traitement de plasma pour modifier une différence de phase entre un premier signal radioélectrique et un second signal radioélectrique. Le premier signal radioélectrique est transmis par une première source de puissance radioélectrique à une première électrode et le second signal radioélectrique est transmis par une seconde source de puissance radioélectrique à une seconde électrode d'un système de traitement de plasma. La seconde source de puissance radioélectrique est couplée à la première source de puissance radioélectrique en tant qu'organe esclave au sein d'une configuration maître-esclave. Ledit procédé consiste à constater une différence de phase entre une phase du premier signal radioélectrique et une phase du second signal radioélectrique, puis à comparer la différence de phase à un signal de point de consigne de commande de phase afin de produire en sortie un signal de commande à destination de la seconde source de puissance radioélectrique, ladite seconde source modifiant, en réponse au signal de commande, la phase du second signal radioélectrique de manière à ce que la différence de phase se rapproche d'une valeur de différence de phase représentée par le signal de point de consigne de commande de phase.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, KE, LS, MW, SD, SZ, UG)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)