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1. (WO1997037371) MAGNET ARRAY FOR MAGNETRONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/037371    International Application No.:    PCT/GB1997/000918
Publication Date: 09.10.1997 International Filing Date: 02.04.1997
Chapter 2 Demand Filed:    28.10.1997    
IPC:
H01J 37/34 (2006.01)
Applicants: APPLIED VISION LTD. [GB/GB]; The Courtyard, Whitwick Business Park, Stenson Road, Whitwick, Leicestershire LE67 4JP (GB) (For All Designated States Except US).
J'AFER, Hussain [GB/GB]; (GB) (For US Only).
WALLS, John, Michael [GB/GB]; (GB) (For US Only).
SPENCER, Alaric, Graham [GB/GB]; (GB) (For US Only).
WAUGH, Allen, Robert [GB/GB]; (GB) (For US Only).
WHITE, Norman, Henry [GB/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: J'AFER, Hussain; (GB).
WALLS, John, Michael; (GB).
SPENCER, Alaric, Graham; (GB).
WAUGH, Allen, Robert; (GB).
WHITE, Norman, Henry; (GB)
Agent: BAILEY WALSH & CO.; 5 York Place, Leeds LS1 2SD (GB)
Priority Data:
9606920.8 02.04.1996 GB
Title (EN) MAGNET ARRAY FOR MAGNETRONS
(FR) SYSTEME D'AIMANTS POUR MAGNETRON
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to improvements in the formation of magnetrons for use in sputter depositing material from a target of material mounted therein. The improvement allows contamination of the target to be reduced in comparison to those of conventional magnetrons, arcing of the magnetron to be reduced and the efficiency and quality of the coating process and target utilisation to be enhanced by providing an array of magnets around the periphery of the target in addition to a first array of magnets to the rear of the target thus causing the effect of the magnetic field on the target to be substantially uniform.
(FR)L'invention porte sur des améliorations apportées à la structure des magnétrons utilisés dans le dépôt par pulvérisation cathodique de matériaux à partir d'une cible de matériau montée à l'intérieur du magnétron. Elle permet, par comparaison aux magnétrons conventionnels, de réduire la contamination de la cible, de diminuer le risque de formation d'un arc et d'accroître l'efficacité et la qualité du processus de revêtement et de l'utilisation de la cible par l'installation, en plus de la première série d'aimants placés à l'arrière de la cible, d'une série d'aimants sur le pourtour de la cible. L'effet du champ magnétique sur la cible devient ainsi sensiblement uniforme.
Designated States: AU, CA, CN, GB, JP, NZ, RU, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)