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1. (WO1997037059) SHOWERHEAD FOR UNIFORM DISTRIBUTION OF PROCESS GAS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/037059    International Application No.:    PCT/US1997/004933
Publication Date: 09.10.1997 International Filing Date: 27.03.1997
Chapter 2 Demand Filed:    24.10.1997    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US)
Inventors: WILLIAMS, Norman; (US)
Agent: PETERSON, James, W.; Burns, Doane, Swecker & Mathis, L.L.P., P.O. Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Priority Data:
08/623,867 29.03.1996 US
Title (EN) SHOWERHEAD FOR UNIFORM DISTRIBUTION OF PROCESS GAS
(FR) ELEMENT DIFFUSEUR SERVANT A REPARTIR UNIFORMEMENT UN GAZ DE TRAITEMENT
Abstract: front page image
(EN)A showerhead (370) includes a plurality of gas inlets (360) for supplying process gas to a semiconductor substrate surface (108) and a plurality of gas outlets (362) for removing gas and volatile byproducts produced as a result of reaction of the process gas with the substrate surface. Each gas inlet is concentrically positioned within a respective gas outlet. The showerhead improves the utilization of process gas species at the substrate surface by providing gas flow in a direction perpendicular to the substrate surface and avoiding flow of the process gas or volatile byproducts laterally across the substrate surface. The showerhead is useful for uniform stripping of a mask of organic material by direct contact of the incoming reactive gas with the substrate surface and immediate removal of the process gas and volatile byproducts through the concentrically arranged gas outlets.
(FR)Cette invention se rapporte à un élément diffuseur (370) comprenant un ensemble de plusieurs orifices d'admission de gaz (360) servant à amener un gaz de traitement jusqu'à la surface d'un substrat semi-conducteur (108), ainsi qu'un ensemble de plusieurs orifices d'évacuation (362) servant à éliminer le gaz et les sous-produits volatils dérivant de la réaction du gaz de traitement avec la surface du substrat. Chaque orifice d'admission de gaz est situé concentriquement à l'intérieur d'un orifice d'évacuation de gaz correspondant. Cet élément diffuseur améliore l'utilisation de différents types de gaz de traitement à la surface du substrat, en créant un écoulement de gaz dans un sens perpendiculaire à la surface du substrat, et en évitant l'écoulement latéral du gaz de traitement et des sous-produits volatils à travers la surface du substrat. Cet élément diffuseur est indiqué pour effectuer un dépouillage uniforme d'un masque de matière organique par contact direct du gaz réactif entrant avec la surface du substrat et par extraction immédiate du gaz de traitement et des sous-produits volatils à travers les orifices concentriques d'évacuation de gaz.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)